Возможна и только электрохимическая технология подготовки цилиндрической полложки. Дефекты поверхности калнброваипон проволоки уменьшают электрополированием в ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Гриднев В.Н. Технология элементов ЭВА


Возможна и только электрохимическая технология подготовки цилиндрической полложки. Дефекты поверхности калнброваипон проволоки уменьшают электрополированием в электролите, содержащем 85 ортофосфорпой кислоты ( Н3РО4), при температуре 65: С в течение 30 - 50 с. Скорость процесса регулируют изменением температуры и путем добавления в раствор хромовой кислоты. При плотности тока 120 - 160 А / м2 на поверхности подложки формируются хаотически расположенные неоднородности. Электрополирование полностью не устраняет большие дефекты и текстуру поверхностного слоя. Оптимальную кристаллическую структуру и однородный микрорельеф получают электрохимическим осаждением подслоя толщиной 1 - 3 мкм из раствора пирофосфата меди, цианистой или сернокислой меди. Однородный поверхностный слой подложки формируется из столбчатых кристаллитов диаметром от 0 1 до 1 0 мкм. Практикуют осаждение двух слоев меди, из которых первый является сглаживающим, а второй определяет кристаллическую-структуру и магнитные свойства пленки.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

Возможна и только электрохимическая технология подготовки цилиндрической полложки.  Дефекты поверхности калнброваипон проволоки уменьшают электрополированием в электролите,  содержащем 85 ортофосфорпой кислоты ( Н3РО4),  при температуре 65:  С в течение 30 - 50 с.  Скорость процесса регулируют изменением температуры и путем добавления в раствор хромовой кислоты.  При плотности тока 120 - 160 А / м2 на поверхности подложки формируются хаотически расположенные неоднородности.  Электрополирование полностью не устраняет большие дефекты и текстуру поверхностного слоя.  Оптимальную кристаллическую структуру и однородный микрорельеф получают электрохимическим осаждением подслоя толщиной 1 - 3 мкм из раствора пирофосфата меди,  цианистой или сернокислой меди.  Однородный поверхностный слой подложки формируется из столбчатых кристаллитов диаметром от 0 1 до 1 0 мкм.  Практикуют осаждение двух слоев меди,  из которых первый является сглаживающим,  а второй определяет кристаллическую-структуру и магнитные свойства пленки.