Физическая адсорбция молекул HgO на поверхности подложки обусловлена силами вандерваальсового молекулярного взаимодействия между молекулами адсорбента ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Иванов-Есипович Н.К. Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры


Физическая адсорбция молекул HgO на поверхности подложки обусловлена силами вандерваальсового молекулярного взаимодействия между молекулами адсорбента ( подложки) и воды. Этот процесс протекает почти мгновенно без сообщения молекулами дополнительной энергии. Прочность связи адсорбированной молекулы с адсорбентом мала, молекула не теряет своих индивидуальных свойств.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

 Физическая адсорбция молекул HgO на поверхности подложки обусловлена силами вандерваальсового молекулярного взаимодействия между молекулами адсорбента ( подложки) и воды.  Этот процесс протекает почти мгновенно без сообщения молекулами дополнительной энергии.  Прочность связи адсорбированной молекулы с адсорбентом мала,  молекула не теряет своих индивидуальных свойств.