Распыление ионной бомбардировкой основано на прямом воздействии электрического поля на распыляемый металл. Этот метод называют ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа
Выдержка из книги
Ушаков Н.Н.
Технология элементов вычислительных машин Издание 2
Распыление ионной бомбардировкой основано на прямом воздействии электрического поля на распыляемый металл. Этот метод называют также катодным из-за подключения распыляемой мишени к отрицательному электроду. Ионная бомбардировка использует характерное для тлеющего разряда явление переноса частиц металла с отрицательного электрода ( катода) на помещенную в области разряда подложку.