Распыление ионной бомбардировкой основано на прямом воздействии электрического поля на распыляемый металл. Этот метод называют ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Ушаков Н.Н. Технология элементов вычислительных машин Издание 2


Распыление ионной бомбардировкой основано на прямом воздействии электрического поля на распыляемый металл. Этот метод называют также катодным из-за подключения распыляемой мишени к отрицательному электроду. Ионная бомбардировка использует характерное для тлеющего разряда явление переноса частиц металла с отрицательного электрода ( катода) на помещенную в области разряда подложку.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

Распыление ионной бомбардировкой основано на прямом воздействии электрического поля на распыляемый металл.  Этот метод называют также катодным из-за подключения распыляемой мишени к отрицательному электроду.  Ионная бомбардировка использует характерное для тлеющего разряда явление переноса частиц металла с отрицательного электрода ( катода) на помещенную в области разряда подложку.