Установка УВМ-71П-5 предназначена для напыления тонких диэлектрических пленок с помощью резистивного испарителя. Производительность установки 60 ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Борисенко А.С. Технология и оборудование для производства микроэлектронных устройств


Установка УВМ-71П-5 предназначена для напыления тонких диэлектрических пленок с помощью резистивного испарителя. Производительность установки 60 подложек / цикл, предельный вакуум - Япред 6 6 - 10 5 Па достигается за 90 мин. Установка может работать с управлением от ЭВМ и может быть включена в линию автоматического процесса напыления пленок.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

Установка УВМ-71П-5 предназначена для напыления тонких диэлектрических пленок с помощью резистивного испарителя. Производительность установки 60 подложек / цикл, предельный вакуум - Япред 6 6 - 10 5 Па достигается за 90 мин. Установка может работать с управлением от ЭВМ и может быть включена в линию автоматического процесса напыления пленок.