Осаждение пленок двуокиси кремния, содержащих определенные количества таких окислов, как В203, Р205, As203, Sb203 и ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа
Выдержка из книги
Разуваев Г.А.
Металлоорганические соединения в электронике
Осаждение пленок двуокиси кремния, содержащих определенные количества таких окислов, как В203, Р205, As203, Sb203 и некоторые другие, используется для контролируемого введения микропримесей в полупроводниковые материалы при создании электронно-дырочных переходов. Этот вопрос рассматривается подробно в разделе 10.4. Здесь же мы лишь отметим, что, варьируя условия осаждения и исходные соединения, можно получать легированные пленки двуокиси кремния строго заданного состава. Кроме алкилышх соединений этих элементов, свойства которых приведены в главе 7, для этих целей используются также их алкоксипроизводные. Соединения этого класса, как правило, являются жидкими и обладают достаточно высокой летучестью.