Осаждение пленок двуокиси кремния, содержащих определенные количества таких окислов, как В203, Р205, As203, Sb203 и ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Разуваев Г.А. Металлоорганические соединения в электронике


Осаждение пленок двуокиси кремния, содержащих определенные количества таких окислов, как В203, Р205, As203, Sb203 и некоторые другие, используется для контролируемого введения микропримесей в полупроводниковые материалы при создании электронно-дырочных переходов. Этот вопрос рассматривается подробно в разделе 10.4. Здесь же мы лишь отметим, что, варьируя условия осаждения и исходные соединения, можно получать легированные пленки двуокиси кремния строго заданного состава. Кроме алкилышх соединений этих элементов, свойства которых приведены в главе 7, для этих целей используются также их алкоксипроизводные. Соединения этого класса, как правило, являются жидкими и обладают достаточно высокой летучестью.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

Осаждение пленок двуокиси кремния,  содержащих определенные количества таких окислов,  как В203,  Р205,  As203,  Sb203 и некоторые другие,  используется для контролируемого введения микропримесей в полупроводниковые материалы при создании электронно-дырочных переходов.  Этот вопрос рассматривается подробно в разделе 10.4. Здесь же мы лишь отметим,  что,  варьируя условия осаждения и исходные соединения,  можно получать легированные пленки двуокиси кремния строго заданного состава.  Кроме алкилышх соединений этих элементов,  свойства которых приведены в главе 7,  для этих целей используются также их алкоксипроизводные.  Соединения этого класса,  как правило,  являются жидкими и обладают достаточно высокой летучестью.