Маскирующее свойство двуокиси кремния основано на разности коэффициентов диффузии примеси в двуокиси и кремнии, так ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа
Выдержка из книги
Ермолаев Б.И.
Конструирование функциональных узлов ЭВМ на интегральных схемах
Маскирующее свойство двуокиси кремния основано на разности коэффициентов диффузии примеси в двуокиси и кремнии, так как скорость диффузии в двуокиси намного меньше, чем в кремнии. Поэтому за время процесса диффузии примесь проникает в толщу окисла на незначительную глубину и не доходит до поверхности кремния.
