Выдержка из книги
Иванов-Есипович Н.К.
Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры
При изготовлении тонкопленочных структур на основе гетеро-слоев типа металл - диэлектрик - металл ( МДМ) основная технологическая трудность состоит в устранении дефектов в тонкой диэлектрической пленке, разделяющей нижний и верхний металлические слои.
