Другим явлением, характерным для термического окисления кремния, является присутствие в пленке окисла связанного положительного заряда. ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Парфенов О.Д. Технология микросхем


Другим явлением, характерным для термического окисления кремния, является присутствие в пленке окисла связанного положительного заряда. Предполагается, что причина этого заключается в наличии свободных связей у атомов кремния вблизи границы раздела SiC - Si из-за недостатка кислорода, в результате чего возникают положительные ионы кремния. Положительный пространственный - заряд в пленке окисла способен изменить концентрацию подвижных носителей в поверхностном слое кремния: отталкивать дырки в глубь области и притягивать электроны к поверхности раздела.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

Другим явлением, характерным для термического окисления кремния, является присутствие в пленке окисла связанного положительного заряда. Предполагается, что причина этого заключается в наличии свободных связей у атомов кремния вблизи границы раздела SiC - Si из-за недостатка кислорода, в результате чего возникают положительные ионы кремния. Положительный пространственный - заряд в пленке окисла способен изменить концентрацию подвижных носителей в поверхностном слое кремния: отталкивать дырки в глубь области и притягивать электроны к поверхности раздела.