Выдержка из книги
Майссела Л.N.
Технология тонких пленок Часть 1
В тех случаях, когда применяются фотошаблоны, на которых имеются одновременно и большие, и очень маленькие по размерам линии, сравнимые с дифракционной картиной в оптических системах, правильный выбор выдержки при экспонировании очень затруднен. Если считают, что изображение линий состоит из сплошного ряда колец Эйри, то это надо понимать так, что для широких линий выдержка должна быть меньше, чем для узких, потому что в первом случае перехлестывается большее число колец, чем в последнем. Причина этого явления состоит в том, что количество света, дифрагирующего, на неосвещаемом участке и в области, смежной с освещаемой, ничтожно в сравнении с тем количеством света, которое попадает на неосвещаемые участки. Таким образом, увеличение продолжительности экспонирования приводит к расширению линий, а недодержка - к сужению.