Выдержка из книги
Майссела Л.N.
Технология тонких пленок Часть 1
MER / KTFR является так называемый кислородный эффект. Эта реакция по существу происходит в то нких слоях фоторезиста, около свободной поверхности, и поэтому эта часть остается растворимой в проявителе. Если не прибегать К изменению продолжительности экспонирования, то при работе со слоями фоторезиста около 1 мкм и более кислородный эффект становится не заметным. Однако при работе со слоями толщиной 0 5 мкм и менее, эти слои могут быть уменьшены за счет кислородного эффекта настолько, что покрытия не обеспечат достаточную защиту поверхности пленки при последующем травлении. Избежать появления кислородного эффекта лучше всего удается в том случае, когда вакуумный держатель с фотошаблоном и подложка устанавливаются таким образом, что поверхность раздела фоторезист - фотошаблон находится под пониженным давлением. Однако это менее эффективно, чем применение вакуума.