Структуры пленок, нанесенных при обычных температурах, в общем случае аналогичны структурам массивных образцов. Если нанесение ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Майссела Л.N. Технология тонких пленок Часть 2


Структуры пленок, нанесенных при обычных температурах, в общем случае аналогичны структурам массивных образцов. Если нанесение производится при низких температурах, когда подвижность атомов осаждаемого вещества мала, рост кристаллов заторможен и образующаяся структура может быть похожа на аморфную. Так, для алюминия температура увеличивается от 1 2 до 2 5 К, для галлия - от 1 1 до 8 4 К. Чопра и др. [14] показали, что возрастание критической температуры вольфрамовых пленок может быть обусловлено метастабильной ГЦК-фазой, стабилизированной вследствие малых размеров зерен, с критической температурой около 4 6 К Аморфные пленки на охлаждаемых подложках получались с помощью распыления ионным пучком.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

Структуры пленок, нанесенных при обычных температурах, в общем случае аналогичны структурам массивных образцов. Если нанесение производится при низких температурах, когда подвижность атомов осаждаемого вещества мала, рост кристаллов заторможен и образующаяся структура может быть похожа на аморфную. Так, для алюминия температура увеличивается от 1 2 до 2 5 К, для галлия - от 1 1 до 8 4 К. Чопра и др. [14] показали, что возрастание критической температуры вольфрамовых пленок может быть обусловлено метастабильной ГЦК-фазой, стабилизированной вследствие малых размеров зерен, с критической температурой около 4 6 К Аморфные пленки на охлаждаемых подложках получались с помощью распыления ионным пучком.