Выдержка из книги
Пичугин И.Г.
Технология полупроводниковых приборов
Схема установки для термического окисления кремния в кислороде показана на рис. 8.4. Установка состоит из печи сопротивления 5, применяемой обычно для проведения процесса диффузии примеси. В рабочий канал печи помещают реактор 4, выполненный из оптического плавленого кварца. В подающую магистраль включены вентили-натекатели для регулирования расхода кислорода и ротаметр для измерения его расхода. Скорость потока газа составляет обычно несколько десятков литров в час.
