Выдержка из книги
Пичугин И.Г.
Технология полупроводниковых приборов
Мембранная оболочка имеет толщину - 100 мкм и состоит из плотной активной части ( толщиной 0 2 - 1 0 мкм), где, собственно, и происходят осмотические явления, а также пористой основы. Диаметр пор в активной части составляет 0 02 - 0 05 мкм. При пропускании через такие оболочки воды [ под давлением ( 30 - т - 50) 105 Па ] ее молекулы диффундируют через поры, а молекулы примесей задерживаются. Производительность очистки мала и составляет всего 1 л / сут с 1 м2 поверхности оболочки.
![Мембранная оболочка имеет толщину - 100 мкм и состоит из плотной активной части ( толщиной 0 2 - 1 0 мкм), где, собственно, и происходят осмотические явления, а также пористой основы. Диаметр пор в активной части составляет 0 02 - 0 05 мкм. При пропускании через такие оболочки воды [ под давлением ( 30 - т - 50) 105 Па ] ее молекулы диффундируют через поры, а молекулы примесей задерживаются. Производительность очистки мала и составляет всего 1 л / сут с 1 м2 поверхности оболочки.](/pic/353833403BgO6H0039333473.png)