Распыление ионной бомбардировкой основано на прямом воздействии электрического поля на распыляемый материал. Этот метод называют ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Борисенко А.С. Технология и оборудование для производства микроэлектронных устройств


Распыление ионной бомбардировкой основано на прямом воздействии электрического поля на распыляемый материал. Этот метод называют также катодным из-за подключения распыляемой мишени к отрицательному катоду.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

Распыление ионной бомбардировкой основано на прямом воздействии электрического поля на распыляемый материал.  Этот метод называют также катодным из-за подключения распыляемой мишени к отрицательному катоду.