Распыление ионной бомбардировкой основано на прямом воздействии электрического поля на распыляемый материал. Этот метод называют ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа
Выдержка из книги
Борисенко А.С.
Технология и оборудование для производства микроэлектронных устройств
Распыление ионной бомбардировкой основано на прямом воздействии электрического поля на распыляемый материал. Этот метод называют также катодным из-за подключения распыляемой мишени к отрицательному катоду.