Если разряд поддерживается при давлениях газа, меньших 5 - 10 - 3 мм рт. ст., ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Майссела Л.N. Технология тонких пленок Часть 1


Если разряд поддерживается при давлениях газа, меньших 5 - 10 - 3 мм рт. ст., то распыленные атомы достигают подложки, имея высокие энергии испускания. Это может способствовать улучшению структуры и адгезии пленок. Например, в случае нанесения пленок ионным распылением температура эпитаксии значительно ниже, чем в случае испарения в вакууме ( см. гл.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

Если разряд поддерживается при давлениях газа,     меньших 5 - 10 - 3 мм рт. ст.,  то распыленные атомы достигают подложки,  имея высокие энергии испускания.  Это может способствовать улучшению структуры и адгезии пленок.  Например,    в случае нанесения пленок ионным распылением температура эпитаксии значительно ниже,  чем в случае испарения в вакууме ( см. гл.