К фотошаблонам предъявляются весьма жесткие требования: они должны иметь высокую разрешающую способность ( до 2000 ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Пичугин И.Г. Технология полупроводниковых приборов


К фотошаблонам предъявляются весьма жесткие требования: они должны иметь высокую разрешающую способность ( до 2000 линий / мм); достаточно большую площадь рабочего поля ( это особенно важно при переходе на пластины диаметром 80 - 110 мм в производстве БИС); высокую контрастность; обеспечивать точность воспроизведения всех размеров изображения ( на уровне 0 3 - 0 5 мкм); точность размеров шага между элементами ( в пределах 1 мкм); стабильность рисунка во времени; быть стойкими к истиранию и проколам; иметь плоскостность рабочей поверхности не хуже 0 5 мкм на длине 25 мм, что особенно важно при контактной печати.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

К фотошаблонам предъявляются весьма жесткие требования: они должны иметь высокую разрешающую способность ( до 2000 линий / мм); достаточно большую площадь рабочего поля ( это особенно важно при переходе на пластины диаметром 80 - 110 мм в производстве БИС); высокую контрастность; обеспечивать точность воспроизведения всех размеров изображения ( на уровне 0 3 - 0 5 мкм); точность размеров шага между элементами ( в пределах 1 мкм); стабильность рисунка во времени; быть стойкими к истиранию и проколам; иметь плоскостность рабочей поверхности не хуже 0 5 мкм на длине 25 мм, что особенно важно при контактной печати.