В аморфной пленке As2S3, которая отжигалась при температуре чуть ниже температуры стеклования ( - 170 ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Хамакава И.N. Аморфные полупроводники и приборы на их основе


В аморфной пленке As2S3, которая отжигалась при температуре чуть ниже температуры стеклования ( - 170 С), наблюдается рост ПП при освещении светом, длина волны которого отвечает ширине запрещенной зоны ( зонный свет), причем это возрастание не исчезает в темноте. Это явление, хорошо известное под названием фотопотемнение, связано с фотоструктурным превращением. Обнаружено также, что повышающийся таким образом ПП пленки As2S3 динамически уменьшается при освещении светом, длина волны которого отвечает энергии, меньшей ширины запрещенной зоны ( субзонный свет), и это уменьшение сохраняется в темноте.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

В аморфной пленке As2S3,  которая отжигалась при температуре чуть ниже температуры стеклования ( - 170 С),  наблюдается рост ПП при освещении светом,  длина волны которого отвечает ширине запрещенной зоны ( зонный свет),  причем это возрастание не исчезает в темноте.  Это явление,  хорошо известное под названием фотопотемнение,  связано с фотоструктурным превращением.  Обнаружено также,  что повышающийся таким образом ПП пленки As2S3 динамически уменьшается при освещении светом,  длина волны которого отвечает энергии,  меньшей ширины запрещенной зоны ( субзонный свет),  и это уменьшение сохраняется в темноте.