Промышленностью выпускаются целый ряд растворов для снятия фоторезиста, среди которых наибольшую известность, по-видимому, получил раствор ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Майссела Л.N. Технология тонких пленок Часть 1


Промышленностью выпускаются целый ряд растворов для снятия фоторезиста, среди которых наибольшую известность, по-видимому, получил раствор J-100 ( фирма Индастри кэм. Он был создан для снятия фоторезистов KMER / KTFR, но пригоден для снятия и фоторезистов KPR и AZ-1350. Рекомендуется выдерживать температуру растворителя в пределах 80 С i [84] - 130 С [85] и продолжительность погружения 2 - 3 мин.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

Промышленностью выпускаются целый ряд растворов для снятия фоторезиста,  среди которых наибольшую известность,  по-видимому,  получил раствор J-100 ( фирма Индастри кэм.  Он был создан для снятия фоторезистов KMER / KTFR,  но пригоден для снятия и фоторезистов KPR и AZ-1350.  Рекомендуется выдерживать температуру растворителя в пределах 80 С i [84]  -  130 С [85] и продолжительность погружения 2 - 3 мин.