Вблизи границы раздела концентрация примеси повышается, но распределение примеси на границе раздела в результате приобретает ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Сугайто Т.N. Введение в микроэлектронику


Вблизи границы раздела концентрация примеси повышается, но распределение примеси на границе раздела в результате приобретает плавный, а не ступенчатый характер. Эта ситуация показана на рис. 4.11. Начальный пологий участок кривой соответствует введению примеси в эпи-таксиальный слой из газовой фазы. Разумеется, форма кривой автолегирования меняется в зависимости от температуры и длительности процесса. В качестве легирующей примеси при формировании скрытого слоя может также использоваться сурьма ( Sb), имеющая низкий коэффициент диффузии.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

Вблизи границы раздела концентрация примеси повышается, но распределение примеси на границе раздела в результате приобретает плавный, а не ступенчатый характер. Эта ситуация показана на рис. 4.11. Начальный пологий участок кривой соответствует введению примеси в эпи-таксиальный слой из газовой фазы. Разумеется, форма кривой автолегирования меняется в зависимости от температуры и длительности процесса. В качестве легирующей примеси при формировании скрытого слоя может также использоваться сурьма ( Sb), имеющая низкий коэффициент диффузии.