Двойной пик плавления при скорости нагревания 8 град / мин наблюдали кристаллов, выращенных при 50, ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Вундерлих Б.N. Физика макромолекул Том 3


Двойной пик плавления при скорости нагревания 8 град / мин наблюдали кристаллов, выращенных при 50, 75 и 100 С, а одиночный пик - у ристаллов, выращенных при 25 и. На рис. 9.17 показано, как из-шняется положение высокотемпературного и низкотемпературного пи-ов плавления при изменении скорости нагревания. Высокотемператур-ый пик плавления обусловлен, наиболее вероятно, плавлением кристал-ов, усовершенствовавшихся при нагревании. Подтверждением такого бъяснения служит уменьшение температуры и величины этого пика ри увеличении скорости нагревания, увеличение температуры растворе-ия кристаллов после отжига при температурах между двумя пиками давления и-исчезновение высокотемпературного пика после химичео: ой обработки кристаллов ( разд. При нагревании кристаллов, вы - ащенных при 25 С, их совершенствование происходит практически непре-ывно, начиная с низких температур, в результате чего низкотемпера-урный пик плавления не наблюдается. Кристаллы, выращенные при 25 С, подобны по совершенству кристаллам, упорядочившимся в провесе нагревания со скоростью 8 град / мин, и поэтому низкотемпера-урный пик плавления также отсутствует на термограмме, полученной ри их нагревании с указанной скоростью. Следовательно, температура давления с нулевым производством энтропии должна быть равной 07 С или несколько ниже. При равновесной температуре плавления: 43 ( табл 8.6) наблюдаемому понижению температур у ламелярных ристаллов отвечает их поверхностная свободная энергия 30 эрг / см2, которая значительно ниже вычисленной поверхностной свободной энер-ии для кристаллов полиэтилена [ см. уравнение ( 147) гл.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

 Двойной пик плавления при скорости нагревания 8 град / мин наблюдали кристаллов,  выращенных при 50,  75 и 100 С,  а одиночный пик  -  у ристаллов,  выращенных при 25 и.  На рис. 9.17 показано,  как из-шняется положение высокотемпературного и низкотемпературного пи-ов плавления при изменении скорости нагревания.  Высокотемператур-ый пик плавления обусловлен,  наиболее вероятно,  плавлением кристал-ов,   усовершенствовавшихся при нагревании.  Подтверждением такого бъяснения служит уменьшение температуры и величины этого пика ри увеличении скорости нагревания,  увеличение температуры растворе-ия кристаллов после отжига при температурах между двумя пиками давления и-исчезновение высокотемпературного пика после химичео: ой обработки кристаллов ( разд.  При нагревании кристаллов,  вы - ащенных при 25 С,  их совершенствование происходит практически непре-ывно,  начиная с низких температур,  в результате чего низкотемпера-урный пик плавления не наблюдается.  Кристаллы,  выращенные при 25 С,  подобны по совершенству кристаллам,  упорядочившимся в провесе нагревания со скоростью 8 град / мин,  и поэтому низкотемпера-урный пик плавления также отсутствует на термограмме,  полученной ри их нагревании с указанной скоростью.  Следовательно,  температура давления с нулевым производством энтропии должна быть равной 07 С или несколько ниже.  При равновесной температуре плавления: 43 ( табл 8.6) наблюдаемому понижению температур у ламелярных ристаллов отвечает их поверхностная свободная энергия 30 эрг / см2,  которая значительно ниже вычисленной поверхностной свободной энер-ии для кристаллов полиэтилена [ см. уравнение ( 147) гл.