Анодирование ведется при относительно высоких давлениях кислорода, поэтому ионное распыление катода всегда реактивное и, кроме ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Иванов-Есипович Н.К. Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры


Анодирование ведется при относительно высоких давлениях кислорода, поэтому ионное распыление катода всегда реактивное и, кроме того, распыленные продукты могут перемещаться к подложке только за счет диффузии. Влиянием переноса распыленного материала в виде ионов пренебрегаем, так как отрицательные ионы попадать на подложку не могут и переносятся аксиальным полем разряда на анод, а положительные ионы вытягиваются на стенки. Наконец, принимаем, что в начальном сечении концентрация распыленных атомов равномерна и постоянна.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

Анодирование ведется при относительно высоких давлениях кислорода, поэтому ионное распыление катода всегда реактивное и, кроме того, распыленные продукты могут перемещаться к подложке только за счет диффузии. Влиянием переноса распыленного материала в виде ионов пренебрегаем, так как отрицательные ионы попадать на подложку не могут и переносятся аксиальным полем разряда на анод, а положительные ионы вытягиваются на стенки. Наконец, принимаем, что в начальном сечении концентрация распыленных атомов равномерна и постоянна.