Пленки нитрида кремния, осажденные в плазмоактивирован-ных процессах, в основном используются как диффузионные барьеры, стопорные слои ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа
Выдержка из книги
Киреев В.Ю.
Мир электроники технологии микроэлектроники Химическое осаждение из газовой фазы
Пленки нитрида кремния, осажденные в плазмоактивирован-ных процессах, в основном используются как диффузионные барьеры, стопорные слои при химико-механической планаризации и травлении пленок оксида кремния и в качестве слоев финишной пассивации кристаллов ИМС.
