Плоскостность поверхности ( особенно волнистость) влияет на четкость линий при фотолитографическом процессе. Если поверхность фоторезистора ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Ушаков Н.Н. Технология элементов вычислительных машин Издание 2


Плоскостность поверхности ( особенно волнистость) влияет на четкость линий при фотолитографическом процессе. Если поверхность фоторезистора не имеет хорошего контакта с фотошаблоном, то четкость отдельных участков будет ухудшаться. Отклонения от плоскостности допускаются в пределах 0 1 - 5 мкм / мм.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

 Плоскостность поверхности ( особенно волнистость) влияет на четкость линий при фотолитографическом процессе.  Если поверхность фоторезистора не имеет хорошего контакта с фотошаблоном,  то четкость отдельных участков будет ухудшаться.  Отклонения от плоскостности допускаются в пределах 0 1 - 5 мкм / мм.