Плоскостность поверхности ( особенно волнистость) влияет на четкость линий при фотолитографическом процессе. Если поверхность фоторезистора ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа
Выдержка из книги
Ушаков Н.Н.
Технология элементов вычислительных машин Издание 2
Плоскостность поверхности ( особенно волнистость) влияет на четкость линий при фотолитографическом процессе. Если поверхность фоторезистора не имеет хорошего контакта с фотошаблоном, то четкость отдельных участков будет ухудшаться. Отклонения от плоскостности допускаются в пределах 0 1 - 5 мкм / мм.