Основной частью конструкции фоторезистора является - полупроводниковый фоточувствительный слой, который может быть выполнен в виде ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Пасынков В.В. Полупроводниковые приборы Изд5


Основной частью конструкции фоторезистора является - полупроводниковый фоточувствительный слой, который может быть выполнен в виде монокристаллической или поликристаллической пластинки полупроводника или в виде поликристаллической пленки полупроводника, нанесенной на диэлектрическую подложку. В качестве полупроводникового материала для фоторезисторов обычно используют сульфид кадмия, селенид кадмия или сульфид свинца.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

Основной частью конструкции фоторезистора является - полупроводниковый фоточувствительный слой,  который может быть выполнен в виде монокристаллической или поликристаллической пластинки полупроводника или в виде поликристаллической пленки полупроводника,  нанесенной на диэлектрическую подложку.  В качестве полупроводникового материала для фоторезисторов обычно используют сульфид кадмия,  селенид кадмия или сульфид свинца.