По-видимому, это означает, что при очень низких кинетических энергиях столкновения частиц нельзя рассматривать как независимые ... - Большая Энциклопедия Нефти и Газа



Выдержка из книги Майссела Л.N. Технология тонких пленок Часть 1


По-видимому, это означает, что при очень низких кинетических энергиях столкновения частиц нельзя рассматривать как независимые парные столкновения. В столкновение могут вовлекаться другие соседние атомы, и это потребует введения некоторых эффективных атомных масс. В случае кинетических энергий, значительно превышающих пороговую, имеется весьма убедительное доказательство того, что распыление является результатом ряда независимых парных столкновений такого же типа, как если бы ион ( или нейтрализованный ион) сталкивался с атомами облака газа. Здесь, конечно, решающую роль играют отдельные массы каждой из сталкивающихся частиц. Распыление атомов или ионов, являющееся результатом единичного столкновения между ионом н поверхностным атомом, можно обнаружить только при наклонной бомбардировке. Представления биллиардной игры применимы также и к бомбардирующему иону. Если его масса меньше массы атома мишени, он может быть рассеян или отражен обратно в результате единичного столкновения. Если же масса иона больше массы атома мишени, то он может отразиться обратно только в результате более чем одного столкновения. При кинетических энергиях, превышающих примерно 100 эВ, ионы начинают внедряться в кристаллическую решетку мишени. Структура и ориентация кристалла являются важными факторами, определяющими глубину проникновения. По мере того, как происходит распыление, устанавливается равновесное состояние, при котором внедренные ионы распыляются так же, как и атомы мишени. Эффекты распыления, вызываемые бомбардировкой молекулярными ионами, можно легко объяснить на основе представлении, развитых для процесса бомбардировки одиночными атомами, если предположить, что атомы, составляющие молекулу, падают на мишень с той же скоростью, что и молекула. Когда скорости бомбардирующих ионов достигают 10е - 107 см / с, к потенциальной Оже-эмиссии вторичных электронов добавляется кинетическая эмиссия вторичных электронов. Коэффициент вторичной эмиссии v может составлять много электронов на один падающий ион. Если проводится рыспыление при энергиях ионов выше 8 кэВ, следует помнить об опасности рентгеновского излучения, которое могут вызвать эти вторичные электроны.

(cкачать страницу)

Смотреть книгу на libgen

По-видимому,  это означает,  что при очень низких кинетических энергиях столкновения частиц нельзя рассматривать как независимые парные столкновения.  В столкновение могут вовлекаться другие соседние атомы,  и это потребует введения некоторых эффективных атомных масс. В случае кинетических энергий,  значительно превышающих пороговую,  имеется весьма убедительное доказательство того,  что распыление является результатом ряда независимых парных столкновений такого же типа,  как если бы ион ( или нейтрализованный ион) сталкивался с атомами облака газа.  Здесь,  конечно,  решающую роль играют отдельные массы каждой из сталкивающихся частиц.  Распыление атомов или ионов,  являющееся результатом единичного столкновения между ионом н поверхностным атомом,  можно обнаружить только при наклонной бомбардировке.  Представления биллиардной игры применимы также и к бомбардирующему иону.  Если его масса меньше массы атома мишени,  он может быть рассеян или отражен обратно в результате единичного столкновения.  Если же масса иона больше массы атома мишени,  то он может отразиться обратно только в результате более чем одного столкновения.  При кинетических энергиях,  превышающих примерно 100 эВ,  ионы начинают внедряться в кристаллическую решетку мишени.  Структура и ориентация кристалла являются важными факторами,  определяющими глубину проникновения.  По мере того,  как происходит распыление,  устанавливается равновесное состояние,  при котором внедренные ионы распыляются так же,  как и атомы мишени.  Эффекты распыления,  вызываемые бомбардировкой молекулярными ионами,  можно легко объяснить на основе представлении,  развитых для процесса бомбардировки одиночными атомами,  если предположить,  что атомы,  составляющие молекулу,  падают на мишень с той же скоростью,  что и молекула.  Когда скорости бомбардирующих ионов достигают 10е - 107 см / с,  к потенциальной Оже-эмиссии вторичных электронов добавляется кинетическая эмиссия вторичных электронов.  Коэффициент вторичной эмиссии v может составлять много электронов на один падающий ион.  Если проводится рыспыление при энергиях ионов выше 8 кэВ,  следует помнить об опасности рентгеновского излучения,  которое могут вызвать эти вторичные электроны.