Выдержка из книги
Палатник Л.С.
Эпитаксиальные пленки
На рис. 2.33 показаны типичные профили распределения легирующего элемента по толщине слоя. Кривые 1 т 2, относящиеся к двум образцам кремния, осажденным на сапфире при 1160 С без дополнительной термической обработки, характеризуют распределение легирующей примеси вследствие автолегирования. Четвертый образец ( пленку толщиной 14 мк) после осаждения при 1160 С отжигали 30 мин при 1375 С.