Коэффициент - использование - пар
Cтраница 2
Райх баум считает, что типичным для носителя ( Ga2O3, AgCl, NaCl и др.) - будет значительное увеличение времени пребывания атомов в разряде и, возможно, коэффициента использования паров у ( ом. [16]
Преимущества метода ионного осаждения по сравнению с термическим напылением в вакууме заключаются в следующем: имеется возможность обрабатывать ионной бомбардировкой подложку и поддерживать ее чистой до момента осаждения покрытия; хорошая адгезия покрытия может быть получена и без предварительного нагрева подложки ( за счет высокой энергии конденсирующихся атомов и интенсификации процесса диффузии и химических реакций); достигается высокая степень равномерности покрытия по толщине и увеличивается коэффициент использования паров металла. [17]
Выше было показано, что равномерность толщины покрытий на полосовых материалах можно повысить, удаляя подложку от испарителя либо увеличивая ширину тигля. Оба эти способа неизбежно приводят к уменьшению средней толщины покрытия и коэффициента использования паров и. Кроме того, увеличение расстояния испаритель-подложка заставляет увеличивать размеры вакуумной камеры, а увеличение ширины тигля нежелательно из-за конструктивных соображений, так как не позволяет равномерно нагревать всю поверхность испарения. [19]
Любое изменение геометрии испарения по-разному сказывается на равномерности толщины покрытий и коэффициенте использования паров. Таким образом, требования к высокой степени равномерности покрытия по толщине и коэффициенту использования паров противоречивы, и при проектировании агрегатов непрерывной металлизации необходимо выбирать компромиссные решения. [20]
 |
Зависимость интенсивности спектральных линий от концентрации NaCl в графитовом коллекторе. [21] |
Zn, Ga) при переходе от 4 к 0 5 % NaCl наблюдается увеличение интенсивности. Причиной может быть компенсация менее благоприятных условий возбуждения увеличением количества частиц, участвующих в излучении, например, из-за большей величины коэффициента использования паров. Особенно заметно влияние NaCl на интенсивность фона, накапливающегося за время экспозиции: интенсивность фона снижается в 2 - 2 5 раза. Эти эффекты приводят к появлению максимума величины / л / / ф при 0 5 % NaCl и увеличению отношения / л / / ф для всех примесей при переходе от 4 к 0 5 % NaCl в 1 7 - 4 2 раза. Аналогичная картина наблюдается и при использовании в качестве носителя GaBr3: максимум величины / л / / для большой группы микропримесей соответствует 0 5 % галлия в графитовом концентрате ( рнс. Исключение составляют только Cd и Zn, для которых сдвиг максимума в сторону меньших концентраций галлия ( 0 2 %) объясняется резким возрастанием интенсивности фона в коротковолновой области спектра с увеличением концентрации галлия. [22]
Фольга в начале цикла снимается при помощи заправочного конца. Этот способ позволяет увеличить коэффициент использования паров и повысить равномерность толщины фольги. Для уменьшения разбрызгивания при испарении и устранения загрязнения фольги легколетучими примесями испаряемый металл обезгаживают, расплавляя его в дополнительном тигле, расположенном в камере, но вне рабочей зоны. Металл подается в испаритель из дополнительного тигля в жидком виде. [23]
Соотношение между L и Ну, удовлетворяющее условию ( 116), найдено на ЭВМ Промшь. При этом необходимо учитывать, что между средней толщиной и коэффициентом использования паров имеется прямая пропорциональная зависимость [ формула ( 112) ], так что оптимальным следует считать не удаление испарителей от подложки с целью улучшения равномерности покрытий, а выбор минимального значения Я, при котором б / бср еще не превышает допустимого значения. [24]
Слабая жидкость получается от промывки газов и аппаратов. Она поступает также из холодильника содовых печей, холодильника и конденсатора дистилляции. В малой дистилляции используется пар низкого давления из испарителя, поэтому она работает под вакуумом, и коэффициент использования пара, поступающего на дистилляцию, повышается. [25]
Неравномерное распределение толщины покрытия на подложке и наличие потерь испаряемого металла являются недостатками метода испарения и конденсации в вакууме, которые особенно проявляются в непрерывных линиях. Если не принять специальных мер, то толщина покрытия в центре полосы будет значительно больше, чем на ее краях. Часть металлических паров, минуя подложку, будет осаждаться на стенках камеры и внутрикамерных устройствах, загрязняя их, нарушая режим работы и снижая экономические показатели установки. Несмотря на то, что указанные вопросы очень важны, в литературе имеется мало данных о равномерности толщины покрытий на движущейся полосе и коэффициенте использования паров. В настоящей главе изложены методика расчета распределения толщины покрытий на полосе и результат анализа некоторых путей улучшения равномерности толщины и повышения коэффициента использования паров. [26]
Неравномерное распределение толщины покрытия на подложке и наличие потерь испаряемого металла являются недостатками метода испарения и конденсации в вакууме, которые особенно проявляются в непрерывных линиях. Если не принять специальных мер, то толщина покрытия в центре полосы будет значительно больше, чем на ее краях. Часть металлических паров, минуя подложку, будет осаждаться на стенках камеры и внутрикамерных устройствах, загрязняя их, нарушая режим работы и снижая экономические показатели установки. Несмотря на то, что указанные вопросы очень важны, в литературе имеется мало данных о равномерности толщины покрытий на движущейся полосе и коэффициенте использования паров. В настоящей главе изложены методика расчета распределения толщины покрытий на полосе и результат анализа некоторых путей улучшения равномерности толщины и повышения коэффициента использования паров. [27]
Страницы: 1 2