Cтраница 1
Мощные лазеры на стекле с неодимом в принципе могут быть использованы в качестве своеобразной накачки для создания инверсной населенности на уровнях многозарядных ионов в лазерной плазме, используемой в виде рабочего вещества УФ и рентгеновских лазеров. [2]
Мощные лазеры позволяют производить такие разнообразные работы, как резка, сверление, закалка, сварка различных материалов. При этом обработке подвергаются материалы любой твердости с большой точностью, что позволяет обрабатывать поверхности очень малых размеров. [3]
Мощные лазеры также являются одним из самых значительных источников электрической опасности в полупроводниковой промышленности. Даже после отключения питания сохраняется вероятность электрического удара, и мощность должна быть рассеяна до работы внутри камеры. [4]
Мощные лазеры с перестраиваемой длиной волны выполняют в видимой и ультрафиолетовой областях спектра на красителях, а в инфракрасной - на полупроводниках. Для накачки используются мощные импульсные лампы на парах меди. [5]
Мощные лазеры на гранате находят все новые области применения благодаря своей компактности, высокой эксплуатационной надежности, хорошему качеству лазерного излучения ( высокая стабильность и малый диаметр луча при относительно небольшой расходимости) по сравнению с лазерами на молекулах ССЬ. При дальнейшем повышении уровня мощности до 500 - 1000 Вт лазеры серии ЛТН-100 смогут широко применяться для сварки и термоупрочнения деталей и инструмента. [6]
Мощные лазеры по указанной выше причине обычно излучают большое число статистически независимых гармонических колебаний. Такой многомодовый характер излучения связан с многомо-довостью спектра собственных колебаний оптического резонатора. В общем случае фазы отдельных мод случайны, так что случайным оказывается и все суммарное излучение. Естественно, что при этом нарушается синфазность электромагнитного излучения с торца лазера или иными словами разрушается как пространственная, так и временная его когерентность. [7]
Мощные лазеры с перестраиваемой длиной волны выполняют в видимой и ультрафиолетовой областях спектра на красителях, а в инфракрасной - на полупроводниках. Для накачки используются мощные импульсные лампы на парах меди. [8]
Излучение мощного лазера воздействует на тот или иной объект ( мишень), часто малоразмерный. Ясно, что в длинной усилительной системе с большим усилением сделать это довольно трудно. Наконец, необходима защита усилительной системы от излучения, отраженного объектом-мишенью ( или образовавшейся плазмой) в обратном направлении. Это излучение, усилившись в сохранивших энергию усилителях, может привести к многочисленным разрушениям оптических элементов. [9]
Из более мощных лазеров представляет интерес оборудование фирмы Culham Laboratory ( Англия), в частности, лазер типа CL5, обеспечивающий генерацию непрерывного излучения мощностью 5 кВт при стабильности мощности в течение 30 мин 100 Вт. [10]
В мощных лазерах применяются несколько видов оптических изоляторов или затворов. [11]
При облучении мощным лазером в спектре отраженного от объекта излучения возникают дополнительные частоты ( линии-спутники), интенсивность и частота ( длина волны света) которых характеристичны. Каждый элемент имеет свою характерную линию вторичного спектра, интенсивность которой пропорциональна его концентрации. В приборной реализации метода также используется механическое сканирование образца под лазерным лучом. [12]
При маркировке мощными лазерами могут образовываться испарения, а остатки материалов оседать на поверхности оборудования и фильтров, на которых осаждается копоть. [13]
Бесспорно, что современные мощные лазеры революционизировали исследование спектров КР. Однако еще не все возможности лазерных источников реализованы в спектроскопии КР. [14]
Существующие в настоящее время мощные лазеры позволяют наблюдать процесс образования плазмы в очень широком диапазоне изменения частоты излучения ( от ультрафиолетового до инфракрасного излучения), длительности облучения мншени ( от пикосекундпой длительности до непрерывного облучения), в широком диапазоне изменения интенсивности излучения. Характер процесса образования плазмы качественно меняется при изменении параметров, характеризующих лазерное излучение. Основное внимание в этой лекции будет уделено явлению образования так называемого плазменного факела - непосредственному образованию плазмы при воздействии мощного импульсного излучения па поверхность твердого непрозрачного тела. Такой выбор обусловлен как относительно хорошим уровнем исследований плазменного факела, так п его большим значением для практики. [15]