Cтраница 2
Главные плоскости расположены симметрично реальным преломляющим поверхностям только у одиночных двояковыпуклых или двояковогнутых симметричных линз. В реальных системах передняя и задняя преломляющие поверхности находятся на различных расстояниях от соответствующих передней и задней главных точек. Поэтому кроме фокусных расстояний необходимо определить отрезки между главным фокусом и соответствующей передней или задней преломляющей ( отражающей) поверхностью системы. Они называются вершинными фокусными расстояниями или соответственно передним SF и задним S F отрезками. Величина заднего отрезка является конструктивным параметром, определяющим расстояние от задней фокальной плоскости до последней линзы системы. [16]
![]() |
Эквипотенциальные линии аксиальносимметричного поля.| Эквипотенциальные линии вблизи седла, найденные экспериментально. [17] |
В электронных линзах часто встречаются поля, в которых в некоторой точке на оси ( в симметричной линзе как раз посередине ее) А. [18]
Она работала в режиме более низкого потенциала среднего электрода, и экспериментально было показано, что сферический коэффициент добротности такой линзы может достигать Csox / f 3 6, который выигрывает в сравнении с наилучшим значением 5, достижимым в этом режиме для симметричной линзы, показанной на рис. ПО. [19]
![]() |
Ускоряющая линза из двух цилиндров.| Ускоряющая линза. [20] |
Ни рис. 7.5 показана другая электростатическая линза, образованная тремя электродами. Она называется симметричной линзой. [21]
Простейшей функцией, удовлетворяющей нашим требованиям, является кубический полином. Следовательно, кубические полиномиальные линзы [221] - это двухэлектродные симметричные линзы, заслуживающие особого внимания. [22]
![]() |
Аппроксимация распределения поля на оси магнитнои линзы аналитическими функ. [23] |
На рис. 148 показаны найденные при помощи измерений распределения полей в магнитной симметричной линзе с диаметром отверстия полюсных наконечников 3 мм и шириной кольцевого зазора между полюсами 2 мм. Кривая / дает измеренное распределение поля при отсутствии насыщения, кривая 2 - при насыщенных полюсных наконечниках. Кривые 3 и 4 представляют аппроксимирующие их функции ( 6, 6) и ( 6, 5) соответственно. [24]
![]() |
График зависимости коэффициента А от кривизны поверхностей, ограничивающих линзу. [25] |
Предложенный способ очень прост, но нахождение с его помощью напряжений в любой точке сечения может оказаться довольно сложным, так как может потребоваться разбиение на очень большое число цилиндров. В таких случаях удобнее пользоваться другим способом, который позволяет находить средние по сечению напряжения в любой точке диаметрального сечения симметричной линзы. Температурное поле при этом считается установившимся, напряжение а, как и в только что разобранном примере, аналогично интенсивности сплошной нагрузки, распределенной по боковой поверхности линзы. [26]
![]() |
Асимметричная однопотен-циальная линза. [27] |
Было также исследовано множество других асимметричных конфигураций. В работе [245] на основе изучения трех различных линз с более высоким потенциалом на среднем электроде был сделан вывод, что для малых рабочих расстояний в режиме конечного увеличения асимметричная структура имеет наименьшую сферическую аберрацию, но если требуется большое рабочее расстояние, то предпочтительнее симметричная линза, изображенная на рис. ПО, с толстым средним электродом и большими межэлектродными зазорами. [28]
![]() |
Основные соотношения между главными элементами линзы и ее перевернутого аналога. а - первоначальная лииза, б - перевернутая линза. [29] |
Как мы знаем, перевернутая линза может быть получена из любой линзы перестановкой всех электродов и их напряжений. Однако для геометрически симметричной линзы достаточно всего лишь перестановки электродных напряжений, чтобы получить перевернутую линзу. Если первоначальная линза является ускоряющей, то перевернутая будет замедляющей с обратным отношением напряжений изображение - объект. Кроме того, очевидно, что величины, характеризующие линзу в пространстве объектов перевернутой линзы, эквивалентны тем же величинам в пространстве изображений первоначальной линзы и обратно. [30]