Защитная маска
Cтраница 3
Испорченные поверхности очковых стекол, защитных масок и щитков утомляют зрение и могут быть причиной головных болей. [31]
Это создание на поверхности подложки защитной маски малых размеров практически любой сложности, используемой в дальнейшем для проведения локальных процессов травления, диффузии, эпитаксии и др. Образуется она с помощью фоточувствительного слоя ( фоторезиста), который под действием света изменяет свою структуру. По способности изменять свойства при облучении фоторезисты бывают негативные и позитивные. [32]
Следует носить резиновые перчатки и защитную маску при попытке оживить человека, а при оказании первой помощи следует надевать резиновые перчатки. Следует, однако, помнить, что риск заражения вирусом иммунодефицита при попытке оживления очень невелик. [33]
Поэтому работа должна проводиться в защитных масках и только при усиленной вентиляции. [34]
В каждой лаборатории обязательно должны быть защитные маски, очки, противогазы, респираторы. [35]
Рабочие должны иметь огнестойкие рукавицы и защитные маски. [36]
 |
Поперечный разрез танталовой тонкопленочной схемы. [37] |
Это прежде всего выбор фоторезиста как защитной маски при анодировании или гальваническом осаждении металлов. [38]
В общем случае при травлении через защитную маску из фоторезиста травители должны обеспечи - eafb локальность воздействия, не вызывать газовыделения, хорошо смачивать и поверхность фоторезистивной маски, и подложки. [39]
 |
Схема расположения предохранительного устройства ( /, предохранительных ( 2 и промывных склянок ( 3 при работе с газообразными веществами.| Промывные склянки. [40] |
Дробить твердую углекислоту следует только в защитной маске или очках. [41]
Выполняющий взрывоопасный эксперимент должен быть в защитной маске из прочного материала, резиновых перчатках и резиновом переднике. В некоторых случаях целесообразно использовать защитные проволочные, шлемы. [42]
Работать возле открытого кинескопа следует в защитной маске. Рядом никто не должен находиться, кроме лица, производящего ремонт ( см. разд. [43]
Электрохимические процессы предъявляют специфические требования к защитным маскам, которые должны выдерживать воздействие химических сред электролитов и электрического тока, не иметь точечных дефектов, сквозь которые может проникать электролит, обладать высокой адгезией к материалу заготовки. Эти требования вынуждают использовать максимально толстые пленки краски или фоторезистов. [44]
Страницы: 1 2 3 4