Cтраница 1
Нормальный металл является средним между ними. [1]
Для нормальных металлов 1D порядка постоянной решетки, так что, строго говоря, вводить это понятие в данном случае нельзя. [2]
Свойства нормальных металлов подробно рассматриваются Кеезомом и Пирлмапом ( см. гл. [3]
Свойства нормальных металлов подробно рассматриваются Кеезомом и Нирлманом ( см. гл. [4]
Для нормального металла критерий применим ости понятия гранулированный материал иной и зависит от температуры. [5]
В нормальном металле при 70 К наименьшей энергией обладает состояние, когда все электроны в k - пространстве занимают ячейки внутри сферы Ферми. Все состояние вне этой сферы свободны. [6]
Медь - нормальный металл; при понижении температуры его проводимость увеличивается. Это происходит потому, что при понижении температуры энергия теплового движения электронов и атомов в металле уменьшается. Следовательно, число столкновений электронов между собой и электронов с атомами падает. Электрический ток при этом испытывает меньшее сопротивление, и проводимость увеличивается. [7]
Остаточное сопротивление нормальных металлов возникает из-за рассеяния электронов проводимости статическими дефектами. Среди этих статических дефектов можно назвать примеси, дислокации, пластическую деформацию и др. Влияние статических дефектов на остаточное сопротивление хорошо изучено, причем значение остаточного сопротивления очень чувствительно к дефектам. Например, в повседневной практике нередко чистоту и совершенство металлического кристалла характеризуют отношением его сопротивлений при 273 и 4 2 К. Это отношение для достаточно чистых и совершенных кристаллов может достигать значения 103 и больше. [8]
Примененная к нормальным металлам, туннельная методика позволила непосредственно обнаружить кулоновскую щель в спектре локализованных состояний и минимум плотности состояний на ферми-уровне в спектре грязных металлов, а также проследить, как одно переходит в другое. [9]
Туннелирование между нормальными металлами не дает существенной информации о электронных состояниях на поверхности Ферми. Вероятность туннелирования W пропорциональна плотности состояний на поверхности Ферми N ( 0) и средней скорости v, направленной в сторону барьера. Эта скорость пропорциональна VF - скорости на поверхности Ферми, так что туннельный ток пропорционален N ( 0) VF. Однако, как известно из теории поверхностей Ферми ( см. [15]), произведение N ( 0) VF просто пропорционально полной площади поверхности Ферми. Поскольку ток, как и сопротивление барьера, также экспоненциально зависит от неизвестной ( и практически не поддающейся измерению) толщины барьера, из туннельного сопротивления нельзя получить никаких сведений о поверхности Ферми. [10]
Сходство в поведении нормальных металлов при их катодном выделении и анодном растворении обнаруживается и в отношении эффектов, связанных с влиянием состава раствора. При-анодном растворении также наблюдается активирующее действие поверхно-стноактивных анионов и тормозящее действие посторонних катионов. Однако анионные эффекты здесь обычно усилены, а катионные ослаблены по сравнению с катодным процессом. [11]
Сходство в поведении нормальных металлов при их катодном выделении и при анодном растворении обнаруживается также в отношении эффектов, связанных с влиянием состава раствора. При анодном растворении тоже наблюдается активирующее действие поверхностно-активных анионов и тормозящее действие посторонних катионов. Однако анионные эффекты здесь обычно усилены, а катионные ослаблены по сравнению с катодным процессом. [12]
Сходство в поведении нормальных металлов при их катодном выделении и анодном растворении обнаруживается также в отношении эффектов, связанных с влиянием состава раствора. При анодном растворении тоже наблюдается активирующее действие ловерхностно-активных анионов и тормозящее действие посторонних катионов. Однако анионные эффекты здесь обычно усилены, а катионные ослаблены по сравнению с катодным процессом. [13]
Сходство в поведении нормальных металлов при их катодном выделении и анодном растворении обнаруживается также в отношении эффектов, связанных с влиянием состава раствора. При анодном растворении тоже наблюдается активирующее действие поверхностно-активных анионов и тормозящее действие посторонних катионов. Однако анионные эффекты здесь обычно усилены, а катионные ослаблены по сравнению с катодным процессом. [14]
Туннельные контакты из нормальных металлов используются в некоторых приборах, но сейчас речь идет о практическом применении сверхпроводимости. Поэтому сделаем следующий шаг и представим себе, что металлические пленки, разделенные тонким слоем диэлектрика, находятся в сверхпроводящем состоянии. [15]