Метод - термическое напыление
Cтраница 1
Метод термического напыления позволяет получать послойные и комбинированные покрытия из металлов практически на любом материале. Одна и та же вакуумная установка без существенных переделок может быть использована для получения покрытий из различных металлов и сплавов. [1]
 |
Устройство для изготовления электрофотографических пластин методом распыления. [2] |
Метод термического напыления в вакууме положен в основу промышленного изготовления электрофотографических пластин. [3]
Метод термического напыления в вакууме отличается высокой производительностью. Высокая производительность приобретает особое значение при нанесении покрытия на непрерывно движущуюся ленту. Существует принципиальная возможность полной автоматизации процесса нанесения покрытий. Применение специальных шлюзов для пропускания защищаемого материала со скоростью несколько метров в секунду через вакуумную систему без нарушения вакуума позволяет сделать процесс металлизации технологичным и экономически эффективным, i При металлизации в вакууме полностью исключается водородная хрупкость. Для конструктивных деталей из высокопрочной стали, подвергающихся действию больших нагрузок, нельзя применять гальванические покрытия, поскольку высокопрочные стали становятся хрупкими под действием водорода, выделяющегося в процессе электролиза. Хотя и разработано оборудование для удаления водорода термообработкой в вакууме, процесс этот медленный и дорогостоящий. [4]
Метод непрерывного термического напыления в вакууме отличается высокой производительностью, покрытия наносят на непрерывно движущуюся ленту и получают однородными с высокой степенью чистоты. Недостатком метода является сложность оборудования и технологии для получения и поддержания вакуума порядка 10 - 2 Па и испарения больших количеств металла. [5]
Так, если при нанесении хромового покрытия на алюминиевый сплав АЛ2 методом термического напыления необходимо защищаемую поверхность предварительно нагревать до 325 - 350 С, то после обработки детали в тлеющем разряде отличная адгезия хромового покрытия к сплаву АЛ2 достигается без предварительного нагревания. Формирование высококачественного покрытия обусловлено спецификой не только процесса ионной очистки, но и самого процесса ионного осаждения в вакууме. В результате бомбардировки поверхности положительными ионами металла и остаточных газов происходит значительная активация поверхности и создаются условия для формирования беспористого покрытия с высокой адгезией к основе. [6]
Метод катодного распЬшения для приготовления пленок термоэлектрических материалов разработан в значительно меньшей степени, чем метод термического напыления, причем в публикациях, в основном описана технология получения пленок для приборов оптоэлектроники. [7]
Метод катодного распйления для приготовления пленок термоэлектрических материалов разработан в значительно меньшей степени, чем метод термического напыления, причем в публикациях, в основном описана технология получения пленок для приборов оптоэлектроники. В то же время этот метод может представлять интерес и для технологии пленочных термобатарей. [8]
В электрофотографической практике применяются четыре основных способа нанесения селеновых покрытий на подложки: метод диспергирования 1 в связующем веществе, метод распыления, метод прессования и метод термического напыления в вакууме. [9]
Попытка количественного сравнения различных методов нанесения покрытий в вакууме предпринята авторами работы [245], причем в каждом из методов учтены их разновидности. Так, метод термического напыления рассмотрен с точки зрения резистивного метода нагрева испаряемого материала, электронно-лучевого и взрывного с непрерывной догрузкой тигля порошком испаряемого материала. В методе катодного распыления рассмотрены обычное высокочастотное распыление и высокочастотное распыление при наличии отрицательного потенциала на подложке. Метод ионного осаждения представлен процессами с применением плазмы, получаемой в разряде постоянного напряжения и в высокочастотном поле, причем каждая из этих разновидностей рассмотрена с точки зрения резистивного и электронно-лучевого испарителя. [10]
Технология производства работ по защите от коррозии зависит от вида покрытия: лакокрасочные, о чем кратко говорилось выше, металлические и метализационно-лакокрасочные. Металлические покрытия наносятся методом термического напыления. Термическое напыление осуществляется электро - или газоаппаратами. Малогабаритные конструкции защищаются способом горячего цинкования ( погружение детали или конструкции в расплавленный цинк) или алюминированием. Такие виды защиты проводятся по специальным руководствам отдельными службами, в состав которых входят как инженеры-строители металлисты, так и специалисты-химики. [11]
Собственные волоконные интерферометры Фабри-Перо СВИФП интерферометры изготавливаются нанесением отражающих зеркальных покрытий на оба торца волоконного световода. Кроме того, зеркала на торцах световодов могут изготавливаться методом термического напыления тонких слоев металлов ( Al, Ag, Au) на поверхность торцов. Для обеспечения максимальной устойчивости характеристик СВИФП в их конструкциях используют одномодовые волоконные световоды. [12]
Проводники ГИС, с помощью которых осуществляют межэлементные соединения и подключение к выводным зажимам, выполняют в виде тонкой пленки золота, меди или алюминия с подслоем никеля, хрома, титана, обеспечивающем высокую адгезию к изоляционному основанию. Такие пленки получают методом термического напыления на поверхности подложек в вакууме с использованием трафаретов, масок. [13]
Совмещенные ( гибридные) ИМС совмещают свойства полупроводниковых и пленочных ИМС. В объеме полупроводника создаются все активные элементы, а затем на поверхности такой подложки формируются пленочные пассивные элементы и токопроводящие дорожки. Основой другого варианта совмещенной ИМС является пленочная ИМС с диэлектрической подложкой, на которой устанавливаются ( навешиваются) активные микрокомпоненты, изготовленные дискретно. Пленочные детали - конденсатор, резисторы, контактные площадки - выполнены методом термического напыления металлов и диэлектрика в вакууме. [14]
Страницы: 1