Метод - пульверизация
Cтраница 2
В электровакуумной технике методом пульверизации наносят покрытия из металлического порошка, сажи или коллоидного графита, Порошки замешиваются на нитролаке. После получения слоя нужной толщины их просушивают и иногда прокаливают в атмосфере водорода или в вакууме для спекания слоя и для его очистки. [16]
Фирма считает, что метод пульверизации более удобен для полупроводниковой технологии, чем общепринятый метод центрифугирования, поскольку в последнем случае центробежные силы вызывают разрывы пленки резиста на дефектах подложки ( например, выступы на поверхности SiO2), а поверхностное натяжение приводит к образованию утолщенного слоя на краях подложки. [17]
Катоды подогревные - оксидирование методом пульверизации вручную и на полуавтомате. [18]
Большинство внешних антиадгезивов наносится методом пульверизации, промывания или погружения. Так как они наносятся на поверхности форм, состояние последних особенно важно. Качественная подготовка поверхности формовочного оборудования может гарантировать качественное нанесение покрытия из незагрязненного антиадгезива. Силиконовые масла наносятся обычно в виде растворов в толуоле или уайт-спирите. [19]
Нанесения на изделия эмали методом пульверизации, а также декорирование посуды этим методом необходимо осуществлять в специальных кабинах, что предотвращает распыление шликера в окружающей атмосфере, вредно отражающееся на здоровье рабочих. [20]
 |
Схема установки. [21] |
Качество экрана, нанесенного методом пульверизации, существенно зависит от быстроты высыхания светосостава, поэтому при использовании спиртово-ацетоновой суспензии колба подогревается до 50 - 60 С, а при нанесении люминофора из водной суспензии - до 100 - 120 С. Подогрев колбы обеспечивает достаточно быстрое высыхание экрана, способствующее получению однородных по толщине и прочно удерживающихся на стекле слоев люминофора. Производительность метода достаточно велика, однако по качеству экраны, нанесенные методом пульверизации, несколько уступают экранам, полученным методом осаждения. [22]
Пленки CdS, осаждаемые методом пульверизации с последующим пиролизом, имеют столбчатую структуру [24], однако она значительно отличается от микроструктуры пленок, получаемых вакуумным испарением. Полученные результаты свидетельствуют о том, что наличие столбчатой структуры зерен является важным условием для достижения высоких характеристик элементов, создаваемых с помощью испарения, тогда как влияние особенностей структуры зерен на характеристики элементов, изготовляемых методом пульверизации, оказывается менее существенным. Такие недостатки элементов, получаемых посредством пульверизации, как малый размер зерен и отсутствие столбчатой структуры, компенсируются положительным эффектом, обусловленным наличием электрического поля вблизи тыльной поверхности и тянущего поля в слое CdS, которые образуются при неоднородном легировании этого слоя. Следует подчеркнуть, что при равных значениях КПД элементы, создаваемые методами испарения и пульверизации, имеют неодинаковую микроструктуру и различные параметры конструкции. [23]
Установка для нанесения фоторезиста методом пульверизации. [24]
Пористость покрытий, наносимых методом пульверизации и электрофореза, в производственных условиях не контролируется, но она может быть рассчитана по значениям веса, толщины и геометрических размеров покрываемых поверхностей. [25]
Пластмассовые детали можно серебрить методом пульверизации, предварительно активируя их поверхность раствором хлористого олова. Растворы серебрения и восстановителя подаются раздельно в двухсопловый пульверизатор, и только на поверхности детали, покрываемой серебром, происходит смешивание растворов. Составы растворов для серебрения методом пульверизации аналогичны предложенным ранее растворам для серебрения воска и восковых композиций. Процесс серебрения осуществляется на холоду, но покрытия более высокого качества получаются при температуре 8 - 12 С. Толщина слоя серебра составляет 0 1 - 0 2 мкм. При необходимости получения более толстых слоев серебра операцию повторяют. После окончания процесса изделие промывают водой и сушат. [26]
 |
Пульверизационная камера. [27] |
Качество покрытия, нанесенного методом пульверизации, в значительной мере зависит от качества распыления, которое достигается регулированием давления воздуха и подбором соответствующих сопел. От размера проходного отверстия сопла зависит также производительность. При малом отверстии производительность снижается и одновременно в связи с узким факелом увеличивается неравномерность покрытия. При слишком большом отверстии сопла производительность увеличивается, но ухудшается качество распыления и покрытие получается рябое или волнистое. [28]
Качество покрытия, нанесенного методом пульверизации, в значительной степени зависит от качества распыления. Это достигается регулировкой давления воздуха и подбором соответствующих сопел. От размера проходного отверстия сопла зависит также производительность. При малом отверстии производительность снижается и одновременно, в связи с узким факелом, увеличивается неравномерность покрытия. При слишком большом отверстии сопла производительность увеличивается, но при этом ухудшается качество распыления и покрытие получается рябое или волнистое. [29]
В настоящее время ВНИИавтогеном разработан метод пульверизации защитного слоя пластмассы, обладающего хорошим сцеплением со сталью и эластичностью. [30]
Страницы: 1 2 3 4