Метод - рекристаллизация - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
В жизни всегда есть место подвигу. Надо только быть подальше от этого места. Законы Мерфи (еще...)

Метод - рекристаллизация

Cтраница 1


1 Последовательность создания полной диэлектрической изоляции методом локальной гомоэпитаксии. [1]

Метод рекристаллизации из расплава заключается в следующем. Слой поликристаллического кремния, нанесенный на диэлектрик, рекристаллизуется из расплава с образованием монокристаллического кремния. При этом используются два способа нагрева: способ движущейся расплавленной зоны и способ, предусматривающий использование импульсного источника нагрева, которому подвергается вся поверхность образца.  [2]

3 Схема кристаллизации ии растьора в расплаве. 1 - 3 5, 4-тигель.| Схема кристаллизации методом гидротермального синтеза. 1-а 5, 4 - вещество для кристаллизации. [3]

Метод рекристаллизации основан на диффузии вещества в образцах, подвергнутых предварительной деформации. При атом одни зерна, составляющие исходный полпкристаллич. Этим методом получают гл.  [4]

Метод рекристаллизации обычно используют для получения монокристаллов некоторых металлов.  [5]

Методом изотермической рекристаллизации с подтравливанием были выращены слои толщиной от 0 2 до 0 4 мкм p - A xGa1 xAs с изменением состава от х 0 9 до х - 0 по глубине. Помещенный над подложкой п - GaAs раствор Ga - Al - Zn был слегка недонасыщен.  [6]

Хорошие результаты получены методом рекристаллизации. При этом пленки кремния наносят на холодную подложку, по которой затем сканирует узкий электронный луч, приводящий к рекристаллизации пленки с образованием монокристалла.  [7]

В заключение следует отметить, что метод рекристаллизации применим главным образом для лабораторных исследований, для практических же целей этот метод мало пригоден, так как он совершенно изменяет структуру исследуемой детали.  [8]

9 КМОП / КНИ. Слой SiOa толщиной 100 нм, W / L транзистора - 100 / 50 мкм. 1-рекристаллизован-ный лазерной обработкой слой кремния. 2 - общий затвор.| Структура КМОП КНИ. 1 - рекристаллизованный лазерной обработкой слой кремния ( толщ. 0 5 мкм. 2 - окисленный слой кремния. [9]

На рис. 5.25 показана структура КМОП, образованная методом рекристаллизации лазерным пучком.  [10]

В качестве объектов исследования были выбраны монокристаллы технически чистого алюминия ( 99 95 / 0 А1), изготовленные методом рекристаллизации.  [11]

Первоначально исследовалось главным образом влияние окружающей среды на механические свойства металлических монокристаллов, таких, как олово, свинец, цинк, алюминий, выращиваемых по методу П. Л. Капицы, И. В. Обреимова и методом рекристаллизации. В то же время при одинаковых температурах и скоростях деформации механические свойства твердых тел и особенно металлов могут меняться в довольно широком диапазоне в зависимости от распределения напряжений внутри образца. Как известно, обычные диаграммы деформации представляют собой усредненные значения сил и деформаций и дают весьма косвенное представление об истинном распределении напряженного и деформированного состояния внутри тела. Дело в том, что в процессе деформирования происходит превращение гомогенной механической системы в гетерогенную, причем это превращение заключается в основном в развитии дефектных участков структуры, всегда присутствующих в реальном твердом теле.  [12]

13 Растворимость As в жидком галлии [ Shen. / California, Stanford. Thesis, Dep. Electr. Eng., 1976 ]. [13]

Для улучшения характеристик полупроводниковых устройств существует несколько вариантов жидкофазного выращивания. С помощью метода рекристаллизации с тыльным подтравливанием [ Woodall, Hovel, 1977 ] в одном технологическом цикле осуществляют геттерирова-ние и выращивание слоя AlxGa.  [14]



Страницы:      1