Cтраница 1
Микропрофиль может быть измерен с помощью стандартного нивелира, рейки ( с ценой деления 1 см) и металлической мерной ленты. [1]
Микропрофиль - это совокупность отдельных элементов рельефа с размерами, не превышающими десятых долей миллиметра; он зависит от начальных микрогеометрических параметров поверхности катода и от характера микрораспределения осаждаемого металла. Под термином микрораспределение обычно понимают распределение скорости электроосаждения на отдельных элементах рельефа - выступах и впадинах. При положительном выравнивании в микроуглублениях наблюдаются более высокие скорости осаждения, чем на микровыступах, при отрицательном выравнивании характер микрораспределения меняется на противоположный. [2]
Микропрофиль ( шерохова - в нем разрывов и трещин. [3]
Микропрофиль обкатанной поверхности определяется условиями пластической деформации металла на выходе из-под ролика. [4]
Записать микропрофиль контактным индуктивным датчиком на установке невозможно. На рис. 2, а ( 1 - 2) приведена профилограмма двух последовательных проходов по одному и тому же сечению круга датчиком с алмазной иглой радиусом г 50 мкм. [5]
Неравнодоступность микропрофиля является причиной неравномерного распределения скорости подвода молекул или ионов выравнивающего агента к различным участкам микропрофиля. Поскольку ингибирующее или стимулирующее действие, оказываемое выравнивающим агентом на процесс электроосаждения металла, усиливается по мере увеличения скорости диффузии агента к катоду, то это действие проявляется в большей степени на микровыступах и в меньшей - в микроуглублениях. [6]
Неравнодоступность микропрофиля является причиной неравномерного распределения скорости подвода молекул или ионов выравнивающего агента к различным участкам микропрофиля. Поскольку ингибирующее или стимулирующее действие, оказываемое выравнивающим агентом на процесс электроосаждения металла, усиливается по мере увеличения скорости диффузии агента к катоду, то это действие проявляется в большей степени на микровыступах и в меньшей степени - в микроуглублениях. Эквипотен-циальность микропрофиля приводит к тому, что неравномерное распределение ингибирующего ( стимулирующего) действия выражается в неравномерном распределении скорости электроосаждения металла. [7]
Неравнодоступность микропрофиля является причиной неравномерного распределения скорости подвода молекул или ионов выравнивающего агента к различным участкам микропрофиля. Поскольку ингибирующее или стимулирующее действие, оказываемое выравнивающим агентом на процесс электроосаждения металла, усиливается по мере увеличения скорости диффузии агента к катоду, то это действие проявляется в большей степени на микровыступах и в меньшей - в микроуглублениях. [8]
Измерение микропрофиля на профилометрах производится методом ощупывания поверхности иглой. [9]
![]() |
Кривые износа поверхностей при подвижной посадке. [10] |
Впадины микропрофиля являются, по существу, надрезами на поверхности и в значительной степени влияют на концентрацию напряжений и образование усталостных трещин в условиях циклической и знакопеременной нагрузки. Степень концентрации напряжений на дне впадин микропрофиля определяется коэффициентом концентрации. [11]
Профилограммы микропрофиля соприкасающихся поверхностей даны на фиг. [12]
На микропрофиле вследствие его эквипотенциальности характер связи между распределением суммарной и парциальной плотностей тока меняется на обратный - распределение суммарной плотности тока ( то есть вторичное распределение тока) зависит от распределения парциальных плотностей тока. Неравномерное распределение суммарной плотности тока на микропрофиле при наличии побочных реакций не влияет на распределение скорости осаждения металла и не может быть причиной положительного или отрицательного выравнивания. [13]
Нефедов, Оптимальный микропрофиль зеркала цилиндров, Автомоб. [14]
Принцип эквипотенциальности микропрофиля иллюстрирует рис. 2.3. Поскольку расстояния LU и ММ весьма малы, то и сопротивления металла м и раствора RL соответственно на участках ММ и LL также очень малы. Это означает, что должны быть практически одинаковы гальвани - и электродные потенциалы на обоих участках микропрофиля. [15]