Мощность - разряд
Cтраница 5
 |
Свечение плазменного фокуса, снятое в режиме непрерывной развертки яа расстоянии 1 еж от внутреннего электрода. Длительность развертки - 1 мксек. [61] |
На рис. 37.8 в качестве иллюстрации приведен снимок временной развертки светового фронта, возникающего в дейтерии в плоскости, отстоящей на 10 мм от торца центрального электрода; начальное давление 3 5 mopt мощность разряда 22 кдж. Световой фронт сбегается к оси со скоростью 2 - 107 см / сек. Сжатие сменяется кратковременанм расширением, за которым следует новое сжатие и исчезновение свечения - возникает разрыв, пауза на киноленте происходящих событий. Новая вспышка медленно расширяющегося свечения происходит вблизи оси системы спустя 100 - 200 нсек. Снимки, полученные в других плоскостях, показывают, что фаза коллапса бежит вдоль оси системы, перемещаясь от катода к аноду со скоростью 107 см / сек. [62]
 |
Схемы энергетических комплексов. [63] |
При наличии достаточно большой приточности и объема водохранилища для охлаждения АЭС и ТЭС сработка воды из пруда-охладителя может осуществляться в нижний бьеф гидроузла ( рис. 1.16 6), что увеличивает напор и мощность разряда гидроаккумулятора. [64]
При оценке термодинамической устойчивости покрытий, получаемых в результате диффузионного взаимодействия материала подложки с осаждаемым материалом, следует иметь в виду существенное увеличение роли физического испарения, вызываемого катодным распылением осаждаемого материала, С увеличением мощности разряда за счет увеличения плотности тока разряда катодное распыление осаждаемого материала может стать настолько интенсивным, что наступит практически полное прекращение роста покрытия. [65]
В серии однотипных озонаторов ( из одного сорта стекла и с одинаковым разрядным промежутком) мощность разряда пропорциональна длине промежутка или объему озонатора V03 в мл: Р p0 - V оз, где р0 - мощность разряда в озонаторе, приходящаяся на 1 мл его объема в вт мл. [66]
 |
Зависимость электрических свойств легированных пленок a - Si. Н от. [67] |
Такая зависимость от Гпоцл для слоев р-типа наводит на мысль, что легирование бором плазменной реакцией из смеси газов B2He - SiH4 должно быть более поверхностно реакционно-активным, чем аналогичное легирование фосфором из смеси PH3 - SiH4 - Мощность ВЧ разряда плазменной реакции влияет на электрические свойства как нелегированных, так и легированных слоев. [68]
Страницы: 1 2 3 4 5