Cтраница 1
Локальный нагрев, вызванный, например, лучом лазера, облегчает генерирование ЦМД, а при нагреве выше точки Кюри отпадает необходимость во внешнем локальном магнитном поле: формирование ЦМД происходит под воздействием магнитных полей соседних участков, замыкающихся через нагреваемую зону. [1]
Локальный нагрев возникает при КЗ токоведущих жил в точке их касания. Если образуется контакт с большим переходным сопротивлением ( например, при слабом нажатии), то выделяется большое количество теплоты, что ведет к быстрому нагреву контактной зоны. Нагрев может вызвать оплавление проводов в зоне контакта, л также их пережог. В действительности локальный нагрев токоведущих жил при их замыкании между собой происходит чрезвычайно быстро и может быть представлен как локальный тепловой удар. Скорость выделения теплоты в контактной точке настолько высока ( порядка нескольких десятков тысяч градусов в секунду), что теплота, аккумулированная в токоведущих жилах в зоне КЗ, практически не передается в окружающую среду. Поэтому можно считать, что в зоне контакта в течение определенного промежутка времени, весьма малого по своей величине, существует очень высокая температура, близкая к температуре кипения металла. Учитывая, что температура нагрева токоведущих жил в зоне контакта очень высокая, следует ожидать воспламенения изоляции, находящейся вблизи зоны нагрева. Ее воспламенению способствует также тепловой эффект электрической дуги, которая, как правило, неизбежно возникает при КЗ. [2]
Локальный нагрев до температуры 400 - 500 С является более чем достаточным, чтобы вызвать в поверхностном слое для большинства конструкционных сталей растягивающие остаточные напряжения. [3]
Локальный нагрев хотя и не является видом термической обработки, но имеет существенное значение для получаемых после термообработки результатов. [4]
![]() |
Групповая пайка навесных элементов при изотропном. [5] |
Локальный нагрев при пайке имеет определенное преимущество по сравнению с общим, так как является щадящим для участков изделия, не подвергающихся пайке. В случае применения элементной базы с пла-нарными ленточными или проволочными выводами, требующими прижима каждого вывода в момент пайки, необходим локальный нагрев паяных швов. Механическую фиксацию навесных элементов осуществляют приклеиванием тела элемента к подложке с помощью изоляционного клея. Локальность нагрева не исключает возможности проведения группового процесса пайки. [6]
![]() |
Групповая пайка навесных элементов при изотропном. [7] |
Локальный нагрев осуществляют тремя способами: контактным, струйным, лучевым. [8]
Локальный нагрев тканей на доли градусов способствует жизнедеятельности биологических объектов, повышает интенсивность процессов обмена. Однако длительное воздействие может привести к перегреву. [9]
![]() |
Схематическое изображение типовой структуры покрытия. [10] |
Локальный нагрев подложки под частицей весьма интенсивен. Градиенты температуры достигают 105 С / с. Наиболее сильный нагрев подложки происходит при плазменном и газопламенном напылении. [11]
Локальный нагрев тканей на доли и единицы градусов, как правило, способствует жизнедеятельности биол. Однако более интенсивные и длит, воздействия могут привести к перегреву биол. [12]
Весьма интенсивный локальный нагрев поверхностных слоев обрабатываемого материала при соприкосновении с плазменной дугой вызывает в заготовке температурное поле высокой степени неравномерности. Неравномерный нагрев, как следует из изложенных выше соображений, создает в металле резко неравномерное поле напряжений. Неравномерность поля напряжений усиливается структурными превращениями, возникающими в части объема нагретого металла, и расплавлением отдельных его участков. Это может привести к микроразрывам и другим дефектам сплошности в поверхностном слое заготовки и содействовать облегчению процесса стружкообразования. [13]
![]() |
Структурная схема лазерной технологической установки. [14] |
Для локального нагрева используют малогабаритные лампы типа КГМ и КИМ. На базе кварцевой галогенной лампы КГМ-220-1000 разработан малогабаритный паяльник. Фокусировка излучения осуществляется с помощью отражателя, имеющего медную зеркальную поверхность с защитной кремнийорга-нической пленкой. Корпус паяльника охлаждается водой. [15]