Наличие - микрорельеф
Cтраница 2
Для точного измерения параметров отраженного света, на к-рые влияют тончайшие поверхностные слои, необходимы исключительно тщательная хим. очистка поверхности и устранение дефектов и нарушений структуры, вызванных обработкой. Наличие микрорельефа приводит к нерегулярному рассеянию света по разным направлениям, причем для высококачеств. Если высота микронеровностей h 0 2А:, то отражение диффузное; при h 0 0031 отражение зеркальное. При наклонном падении и при переходе в ИК-область требования к качеству полировки снижаются. [16]
 |
Параллелограммные механизмы для испытания образцов в виде кубиков. [17] |
Применяют и пуансоны, состоящие из набора узких призм 4, на которые давление передается с помощью эластичной диафрагмы 5 ( рис. 34), а также конусные торцы, составные образцы, вращающиеся пуансоны. Весьма эффективным является применение обойм, заполненных эпоксидным клеем, который, работая в условиях всестороннего сжатия, создает благоприятные условия опирания на торцах. Как показали опыты на оптически активном материале, наилучшие результаты получаются на пластинчатых образцах. Однако применение смазок, особенно органического происхождения, может привести к заниженным результатам вследствие эффекта Ребиндера - расклинивающего действия смазки при наличии микрорельефа на торцах. [18]
Страницы: 1 2