Наращивание - слой
Cтраница 4
Глубина диффузионного слоя подчиняется общей параболической зависимости ( г / / СУт), однако ввиду низких температур процесса ( 500 - 600 С) коэффициент К мал и наращивание слоя в процессе азотирования происходит очень медленно, приблизительно в десять раз медленнее, чем при цементации. [46]
 |
Влияние продолжительности азотирования на. [47] |
Глубина диффузионного слоя подчиняется общей параболической зависимости ( у К i / т), однако ввиду низких температур процесса ( 500 - 600 С) коэффициент К мал и наращивание слоя в процессе азотирования происходит очень медленно, приблизительно в 10 раз медленнее, чем при цементации. [48]
В расплаве № 1 после каждых 30 мин электролиза ( по достижении толщины покрытия 15 мкм) покрытые детали извлекают из ванны, с них удаляют дендриты, после чего наращивание слоя вольфрама продолжается. [49]
Однако при более высоком давлении пара воды, когда уже должен был бы сформироваться полислой Н2О на немодифицированном кремнеземе Hi-Sil, при наличии триметилсилильного гидрофобного покрытия, тормозящего процесс, наращивание слоя воды не происходит. [50]
При перемешивании электролита сжатым воздухом или его прокачивании с непрерывным фильтрованием катодную плотность тока можно повысить до 6 - 8 А / дм2, а при вращении цилиндрических деталей - до 30 - 40 А / дмг, что бывает необходимо при наращивании слоя меди большей толщины, например в гальванопластике. [51]
В связи с тем, что поверхность опытных образцов из ЭИ461, Х23Н28МЗДЗТ и 1Х18Н9Т на воздухе легко пассивируется с возникновением пленки, мешающей прочному сцеплению покрытия с подложкой, окончательная зачистка поверхности перед покрытием проводилась непосредственно в электролите под током, а затем после удаления пассивной пленки и нанесения тончайшего слоя покрытия образцы переносились в другую ванну для наращивания слоя покрытия. Толщина слоя меди, серебра и золота колебалась в пределах соответственно 20 - 22; 15 - 17; 10 - 12 мк. [52]
 |
Состав сернокислых электролитов для железнения и режим работы ванн.| Состав хлористых электролитов для железнения и режим работы ванн. [53] |
Осадки, получаемые из холодных сернокислых ванн, отличаются повышенной твердостью и хрупкостью. Наращивание слоя железа в холодных электролитах происходит сравнительно медленно. [54]
Осадки, получаемые из холодных сернокислых электролитов, отличаются твердостью и хрупкостью. Наращивание слоя железа в холодных электролитах проходит довольно медленно. За 1 час может быть осажден слой железа толщиной 1 - - 1 5 мк. [55]
Осадки из холодных сернокислых электролитов отличаются твердостью и хрупкостью. Наращивание слоя железа в холодных электролитах проходит довольно медленно. За 1 ч может быть осажден слой железа толщиной 1 - 1 5 мкм. [56]
 |
Схемы намотки изделий. [57] |
Для уплотнения материала стеклонити наматывают под натяжением. После наращивания слоя требуемой толщины нити обрезают, и оправка вместе с намотанным на нее слоем стекловолокнита поступает на отверждение. В случае изготовления плит стекловолокнит разрезают по образующей оправки, выпрямляют и отверждают между нагретыми плитами пресса. Отрезки труб отверждают на оправках. [58]
Процесс покрытия электролитическим железом осуществляют с использованием растворимых ( стальных) и нерастворимых ( угольных) электродов. При наращивании слоя покрытия с помощью нерастворимых электродов необходимо систематическое корректирование состава электролита по мере истощения раствора. [59]
Страницы: 1 2 3 4