Cтраница 1
Соответствующая номограмма для реакций первого порядка, протекающих при постоянной плотности реакционной массы, показана на рис. VI-9. Для оценки характеристик системы из / последовательно соединенных проточных реакторов идеального смешения, в которой при отсутствии избытка одного из реагирующих веществ протекает бимолекулярная реакция второго порядка, можно воспользоваться теми же соотношениями, что и для реакции первого порядка, протекающей в аналогичных условиях. [2]
Соответствующая номограмма состоит из трех бинарных полей ( ОС ], сс2), ( оз, а) и ( а6, ав), связанных одним выравниванием. [3]
Соответствующая номограмма состоит из трех бинарных полей ( - Х ], а2), ( а3, 4) и ( as, ae), связанных одним выравниванием. [4]
По соответствующей номограмме определяем искомое сечение. [5]
Для смолы соответствующая номограмма вязкости смеси еще не составлена, однако можно предполагать, что и в этом случае вязкость смеси будет ниже расчетной средневзвешенной. [6]
На ординатах соответствующих номограмм откладывают значения 2 Р 0 и 2РНО; последующие операции соответствуют первому варианту. [7]
На ординатах соответствующих номограмм откладывают значения Рло и Рно и определяют точки пересечения с абсциссой X 5кп1 / атех. Если точки пересечения не будут лежать на кривых, то RI и R2 определяются методом интерполяции по значениям кривых, между которыми лежат эти точки. [8]
На ординатах соответствующих номограмм откладывают значения 2РЛО и 2 Рно, последующие операции соответствуют первому случаю. [9]
Номограммы для определения погрешности, возникающей вследствие искажения формы кривой питающего напряжения ( тока при ig6x 0 01 ( а и tg6x0 l ( б на частоте первой гармоники. [10] |
Отметив на соответствующей номограмме точку с заданными координатами U2 / Ui ( / 2 / / i) и U3 / Ui ( 73 / / i), определим искомую погрешность. [11]
В литературе имеются соответствующие номограммы для расчета вязкости газов. [12]
Экспозиция выбирается по соответствующим номограммам ( рис. 3.2) или опытным путем и зависит: от толщины контролируемого изделия, энергии излучения, фокусного расстояния, типа пленки и экрана, тока рентгеновской трубки или активности источника излучения. Экспозицию подбирают так, чтобы оптическая плотность почернения снимка ( контролируемого участка шва, околошовной зоны и эталона чувствительности) составляла не менее 1 5; при этом энергия излучения должна находиться в пределах оптимального диапазона. Экспозиция может определяться просвечиванием образца, выполненного в виде клина, в диапазоне необходимых толщин, с учетом оптимального времени просвечивания и последующим фотометрированием. После этого на снимке находят участки с одинаковой оптимальной плотностью почернения, определяют толщину металла и строят номограмму для определения времени просвечивания. [13]
Номограмма для определения коэффициента неупругого сопротивления 73.| Номограмма для определения допустимой величины биения коллектора. [14] |
На рис. 136 приведена соответствующая номограмма. [15]