Высший бериллид

Cтраница 1

Высший бериллид МоВе22 образуется только при 1150 С после 3-часового отжига в виде локальных конусообразных наростов. [1]

Микрофотографии молибденовых образцов. [2]

Относящиеся к моменту появления высших бериллидов, выпадают из общей закономерности. [3]

Предполагается, что имеет место преимущественная диффузия бериллия через реакционный слой в системах Nb-Be и Та-Be, а в системах Мо-Be и W-Be - через слой высшего бериллида. [4]

Предполагается, что имеет место преимущественная диффузия бериллия через реакционный слой в системах Nb-Be и Та-Be, а в системах Mo-Be и W-Be - через слой высшего бериллида. [5]

В системах Мо-Be и W-Be также по-разному образуются и растут бериллидные фазы. Если на вольфраме высший берил лид WBe22 получается вскоре после, появления WBe12 и толщина слоя растет в основном за счет WBe22 и WBe2 ( толщина фазы WBe12 остается при этом почти неизменной), то на молибдене слой растет за счет фаз МоВе12 и МоВ2, а высший бериллид МоВе22 образуется только при 1150 С после З - ч отжига в форме отдельных конусообразных включений. [6]

Как видно из таблицы, процесс фазообразования для указанных металлов не одинаков. На ниобии и тантале при наиболее низких температурах 1000 - 1050 С в течение одного часа образуется слой, состоящий из 2 фаз низших бериллидов. Различия в очередности образования фаз наблюдаются не только между молибденом и вольфрамом, с одной стороны, и ниобием и танталом - с другой, но и между металлами каждой пары. Характерно для этих металлов то, что с появлением высших бериллидов МеВе12 рост толщины реакционного слоя происходит за счет роста высшего бериллида при незначительном росте фазы Ме3Ве2 и практически неизменной толщине промежуточных фаз. На рис. 1, а и б показана фотография микрошлифов ниобия и тантала после отжига в порошке бериллия при 1200 С в течение шести часов. Как видно из рисунка, слой высшего бериллида обладает столбчатой структурой, направленной перпендикулярно фронту диффузионного потока. [7]

Как видно из таблицы, процесс фазообразования для указанных металлов не одинаков. На ниобии и тантале при наиболее низких температурах 1000 - 1050 С в течение одного часа образуется слой, состоящий из 2 фаз низших бериллидов. Различия в очередности образования фаз наблюдаются не только между молибденом и вольфрамом, с одной стороны, и ниобием и танталом - с другой, но и между металлами каждой пары. Характерно для этих металлов то, что с появлением высших бериллидов МеВе12 рост толщины реакционного слоя происходит за счет роста высшего бериллида при незначительном росте фазы Ме3Ве 2 и практически неизменной толщине промежуточных фаз. На рис. 1, а и б показана фотография микрошлифов ниобия и тантала после отжига в порошке бериллия при 1200 С в течение шести часов. Как видно из рисунка, слой высшего бериллида обладает столбчатой структурой, направленной перпендикулярно фронту диффузионного потока. [8]

Как видно из таблицы, процесс фазообразования для указанных металлов не одинаков. На ниобии и тантале при наиболее низких температурах 1000 - 1050 С в течение одного часа образуется слой, состоящий из 2 фаз низших бериллидов. Различия в очередности образования фаз наблюдаются не только между молибденом и вольфрамом, с одной стороны, и ниобием и танталом - с другой, но и между металлами каждой пары. Характерно для этих металлов то, что с появлением высших бериллидов МеВе12 рост толщины реакционного слоя происходит за счет роста высшего бериллида при незначительном росте фазы Ме3Ве 2 и практически неизменной толщине промежуточных фаз. На рис. 1, а и б показана фотография микрошлифов ниобия и тантала после отжига в порошке бериллия при 1200 С в течение шести часов. Как видно из рисунка, слой высшего бериллида обладает столбчатой структурой, направленной перпендикулярно фронту диффузионного потока. [10]

Микрофотографии шлифов образцов, отожженных в порошке бериллия. [11]

С в течение шести часов. Анализ кривых показывает, что они удовлетворительно описываются параболической временной зависимостью. Это свидетельствует о том, что в условиях проведения термического отжига насыщение поверхности образцов определяется процессом диффузии компонентов через реакционный слой, а равновесная концентрация на фазовых границах слоя устанавливается в течение первого часа отжига. Исключением является начальная стадия бериллирования вольфрама при 1000 и 1050 С, когда рост слоя определяется не диффузией, а по-видимому, скоростью реакции образования интер-металлидной фазы. Появление высших бериллидов не вызывает изменений кинетической кривой насыщения. [12]

Как видно из таблицы, процесс фазообразования для указанных металлов не одинаков. На ниобии и тантале при наиболее низких температурах 1000 - 1050 С в течение одного часа образуется слой, состоящий из 2 фаз низших бериллидов. Различия в очередности образования фаз наблюдаются не только между молибденом и вольфрамом, с одной стороны, и ниобием и танталом - с другой, но и между металлами каждой пары. Характерно для этих металлов то, что с появлением высших бериллидов МеВе12 рост толщины реакционного слоя происходит за счет роста высшего бериллида при незначительном росте фазы Ме3Ве 2 и практически неизменной толщине промежуточных фаз. На рис. 1, а и б показана фотография микрошлифов ниобия и тантала после отжига в порошке бериллия при 1200 С в течение шести часов. Как видно из рисунка, слой высшего бериллида обладает столбчатой структурой, направленной перпендикулярно фронту диффузионного потока. [13]

Страницы: 1