Область - тлеющий разряд - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Лучшее средство от тараканов - плотный поток быстрых нейтронов... Законы Мерфи (еще...)

Область - тлеющий разряд

Cтраница 1


1 Потенциалы горения трех главных типов самостоятельных разрядов ( Vn - нормальное катодное падение потенциала. [1]

Область тлеющего разряда представляет собой светящееся пространство вблизи катода, отделенное от него темной полосой. При тлеющем разряде катод испускает электроны вследствие бомбардировки его заряженными частицами и световыми квантами. Поле у катода создается в основном положительным пространственным зарядом. Тепловые явления при тлеющем разряде отсутствуют и не являются необходимым условием его существования. Виды тлеющего разряда определяются свойствами и давлением газа, размерами разрядного сосуда, формой, размерами и материалом электродов, а также межэлектродным расстоянием.  [2]

В ряде газонаполненных приборов используется область тлеющего разряда. Эти приборы имеют холодные катоды в виде металлических пластин, и режим тлеющего разряда поддерживается при помощи включенного последовательно в анодную цепь резистора.  [3]

Под катодным пятном в данном случае подразумевается сумма всех областей тлеющего разряда, размещающихся между катодом и положительным столбом. Такое приближение оправдано тем, что ширина этих областей при давлениях, которые использовались в этой работе, невелика.  [4]

Эти недостатки могут быть исключены, если для легирования использовать область тлеющего разряда. Тлеющий разряд является само - поддерживающимся за счет вторичных электронов, которые обычно эмитти-руются с катода при бомбардировке его положительными ионами и частично за счет энергии фотоэффекта.  [5]

На основании вышесказанного можно предположить, что если пленки, получаемые методом ионного распыления, располагаются на некотором расстоянии от области тлеющего разряда, их свойства будут сильно отличаться от свойств пленок, которые получаются в области разряда.  [6]

ИТ может быть основой создания разновидностей процесса сухого проявления, например, с использованием бомбардировки положительными ионами, обычно Аг с энергией 0 5 - 5 кВт [138], причем ионы с поверхностной энергией до 10 Вт / см2 могут реком-бинировать с электронами. Подложка со слоем резиста является составной частью мишени в области тлеющего разряда. При столкновении ионов с материалом подложки имеет место перенос моментов их движения на материал. При достаточной энергии ионов происходит деструкция молекул или ионов материала, разумеется, не всегда селективно. Так же протекает и ионно-химическое проявление [139], принцип которого подобен вышеописанному с той разницей, что плазма образована в среде химически активных газов.  [7]

Анодным падением напряжения Va, ввиду того что его величина колеблется в пределах нескольких вольт [26], мы пренебрегаем и, следовательно, автоматически включаем его в катодное падение. Уравнение, связывающее изменение напряжения горения с изменением тока и pd для поднормальной области тлеющего разряда, в данной работе не рассматривается.  [8]

9 Кривые послесвечения для различных люминофоров, применяемых в электронно-лучевых трубках.| Вольт-амперная характеристика газонаполненного диода с холодным катодом. [9]

Когда напряжение достигает величины, называемой напряжен и. От точки б до точки в напряжение на лампе остается почти постоянным, в то время как ток через лампу возрастает. Эта область называется областью тлеющего разряда и является нормальным рабочим участком газонаполненного диода с холодным катодом.  [10]

В некоторых газах видимое глазом свечение остова возникает лишь при больших давлениях. В темном остове и в положительном столбе беспорядочное движение электронов преобладает над направленным. Развития электронных лавин здесь не происходит, и эта область тлеющего разряда представляет собой газ в состоянии плазмы, свойства которой будут описаны в следующей главе.  [11]

В литературе содержится много противоречивых рекомендаций по режимам обработки тлеющим разрядом. Диапазон изменения параметров, указанных разными авторами в качестве оптимальных, очень широк: напряжение 0 3 - 30 кВ, ток 15 - 600 мА, вакуум 50 - 0 01 Па, длительность обработки 0 5 - 90 мин, вид тока - постоянный, переменный, выпрямленный. Нет единого мнения об оптимальных форме, размерах, расположении и материале электродов, а также о той области тлеющего разряда, помещение в которую дает наибольший эффект активации.  [12]

Насущные задачи видео -, звуко - и вычислительной техники привели к металлизированным магнитным лентам с плотностью информации до сотни бит на квадратный сантиметр. Вращающийся охлаждаемый барабан перематывает полимерную ленту так, что она дважды проходит область тлеющего разряда, сначала для очистки поверхности, затем - после нанесения рабочего слоя - для снятия термомеханически. Сам слой осаждается из паров сплава ( например, никеля и кобальта) высокой чистоты, получаемого испарением мощным электронным пучком; шероховатость ленты в итоге не хуже 1 / 100 мкм.  [13]

Область рабочих давлений ионизационного манометра может быть расширена и на область повышенных давлений при условии, если длина свободного пробега электронов будет уменьшена настолько, что снизится в частота ионизирующих столкновений. Его характерной особенностью является то, что эмит-тирующая электроны нить расположена в узком зазоре между двумя параллельными платами из молибдена. Напряжения смещения на них поданы так, что одна из плат коллектирует положительные ионы, а электроны с катода, не совершая колебаний, попадают на вторую. Он основан на том же самом принципе, но свободный пробег электронов за счет близкого расположения проволочных электродов у него сокращен. При работе в режиме малого эмиссионного тока ( около 0 1 мА или меньше) постоянная манометра равна 0 5 мм рт. ст 1, а область рабочих давлений расположена в пределах 10 - 5 - 1 мм рт. ст. Ториро-ванный иридиевый проволочный катод позволяет нормально работать при давлениях воздуха свыше 1 мм рт. ст. Манометр пригоден также для измерений непосредственно в области тлеющего разряда, что делает его удобным для использования в системах для ионного распыления.  [14]



Страницы:      1