Cтраница 1
Современное криогенное оборудование, например сверхпроводящие генераторы мощностью 5 МВт [1, 2], имеющие сварные детали роторов, испытывает высокие переменные нагрузки при очень низких температурах, вплоть до 4 2 К. [1]
Затраты на криогенное оборудование, устанавливаемое в настоящее время на атомных станциях, составляют примерно 3 - 5 млн. долл. В ближайшем будущем маловероятно значительное расширение использования такого оборудования. Это обусловлено ограниченной областью его применения, особенно конкурирующими методами, позволяющими решать поставленные задачи. [2]
Заказ иа криогенное оборудование оформляют в установленном порядке. [3]
Анализ аварий криогенного оборудования показывает, что большинство из них вызывается загоранием или детонацией различных веществ и материалов, контактирующих с жидким кислородом или азотом, обогащенным кислородом. Одна из основных причин загораний и взрывов - разгерметизация оборудования, в результате которой жидкий кислород попадает в непредусмотренные места, образуя взрыво - и пожароопасные системы материал - жидкий кислород. Поэтому одним из направлений улучшения условий безопасной работы оборудования является повышение общей его надежности. [4]
При эксплуатации криогенного оборудования нередко возникает необходимость дренажа криогенных продуктов в условиях, когда сбросной патрубок находится в воде. [5]
Анализ аварий криогенного оборудования показывает, что большинство из них вызывается загоранием или детонацией различных веществ и материалов, контактирующих с жидким кислородом или азотом, обогащенным кислородом. [6]
При эксплуатации холодильного и криогенного оборудования существенную роль играет количество теплоты, которое необходимо отвести при захолаживании объекта. Количество отводимой теплоты особенно важно в случае, когда оборудование подвергается большому числу циклов нагрева и охлаждения. [7]
Качество любых разработок криогенного оборудования во многом зависит от правильного выбора запорно-регулирующей арматуры, без которой не возможно представить ни одно из вышеперечисленных изделий. [8]
Третья группа, представляющая основное криогенное оборудование, включает ожижитель со вспомогательными агрегатами. [9]
Перспективными материалами для теплоизоляции криогенного оборудования являются некоторые пенопластмассы, имеющие достаточно низкую теплопроводность [ К ж 0 02 - 0 05 Вт / ( м - К) ], удовлетворительную прочность и малую плотность. Большинство из них отличается технологичностью при нанесении изоляции на изделие; они малогигроскопичны, что обусловлено замкнутопористой структурой, дешевы. Однако в отношении взрыво - и пожаробезопасности не все пенопластмассы удовлетворяют требованиям, предъявляемым к криогенной изоляции. Все они интенсивно горят и детонируют в жидком кислороде. [10]
Для конструирования и надежной эксплуатации криогенного оборудования необходимо знать свойства конструкционных материалов при низких температурах. [11]
Широкое использование многослойной изоляции на криогенном оборудовании показало, что она является одним из важнейших условий безопасной транспортировки и продолжительного хранения больших количеств жидкого водорода. При использовании многослойной изоляции на транспортной цистерне емкостью около 107000 л жидкого водорода ( толщина изоляции 28 575 мм) потери от испарения составляют всего 0 25 % в сутки, включая потери от притока тепла по опорам. [12]
Широкое использование многослойной изоляции на криогенном оборудовании показало, что она позволяет безопасно транспортировать и хранить продолжительное время большие количества жидкого водорода. При использовании многослойной изоляции на транспортной цистерне вместимостью 107 м для жидкого водорода ( толщина изоляции всего 28 575 мм) потери на испарение составляют всего только 0 25 в сутки, включая потери от теплопритока по опорам. [13]
Принять к сведению информацию представителей заводов-изготовителей криогенного оборудования о номенклатуре серийно выпускаемого и разрабатываемого оборудования. [14]
Двухступенчатая модель теплопередачи применительно к охлаждению криогенного оборудования в условиях пленочного кипения. [15]