Плазменная обработка
Cтраница 3
Напряжение холостого хода источника тока для плазменной обработки при номинальном напряжении сети не должно превышать: 180 В - для устройств ручной резки, плазменной сварки или наплавки; 300 В - для устройств полуавтоматической резки или напыления; 500 В - для устройств автоматической резки. [31]
Для каких целей в плазмотронах для плазменной обработки используют тангенциальную подачу газа. [32]
Установка АПР-402 предназначена для автоматической BO3AyiiiHOv плазменной обработки черных металлов толщиной до 160 мм, алюминия и его сплавов толщиной до 130 мм, меди и ее сплавов толщиной до 100 мм. [33]
 |
Образец тонкостенной трубы, обрезанной плазменной дугой. [34] |
Принимая во внимание опыт работ по плазменной обработке сталей, резку вели в азотно-кислородной смеси, суммарный расход которой изменяли в пределах от 40 до 120 л / мин. [35]
Напряжение холостого хода источников сварочного тока установок плазменной обработки при номинальном напряжении сети не должно превышать для установок автоматической резки 500 В, для установок полуавтоматической резки или напыления 300 В, для установок ручной резки, сварки или наплавки 180 В. [36]
Напряжение холостого хода источников сварочного тока установок плазменной обработки при номинальном напряжении сети не должно превышать для установок автоматической резки 500 В, для установок полуавтоматической резки или напыления - 300 В, для установок ручной резки, сварки или наплавки - 180 В. [37]
Напряжение холостого хода источников сварочного тока установок плазменной обработки при номинальном напряжении сети не должно превышать для установок автоматической резки 500 В, для установок полуавтоматической резки или напыления 300 В, для установок ручной резки, сварки или наплавки 180 В. [38]
 |
Различные формы внешних статических характеристик.| Тиристорные источники питания, разработанные в ИЭС им. Патока. [39] |
Выпрямители с дросселями насыщения широко применяются для плазменной обработки. Они обладают хорошими регулировочными характеристиками, просты в обслуживании и надежны в работе. Их недостатками являются низкий cos ф, значительные габаритные размеры и масса. Не вполне удовлетворительны и динамические характеристики дросселей насыщения, поэтому появляются броски тока при возбуждении дуги в источнике питания для плазменной резки. Используемое в этих источниках питания начальное ограничение тока подмагничивания дросселя насыщения все же не позволяет полностью избавиться от бросков тока. Источники питания с дросселями насыщения постепенно вытесняются более экономичными, компактными и легкими тиристорными выпрямителями. [40]
Напряжение холостого хода источников сварочного тока установок плазменной обработки при номинальном напряжении сети не должно превышать для установок автоматической резки 500 В, для установок полуавтоматической резки или напыления 300 В, для установок ручной резки, сварки или наплавки 180 В. [41]
Детальная классификация и анализ наиболее перспективных методов ионно-лучевой и плазменной обработки проведен в последующей главе. [42]
Процесс имплантации, который имеет место при плазменной обработке, - это один из наиболее эффективных методов поверхностной модификации полимерных материалов. Плазма активирует молекулы газа, в частности, кислорода и азота. [43]
Страницы: 1 2 3