Ступенчатая обработка

Cтраница 2

Правильная дозировка и своевременное применение гербицидов, а также ступенчатая обработка ( только одной половины пруда или стороны канала) тоже позволяют уменьшить риск. [16]

Известны замазки на основе высокомолекулярных полиорганосилоксанов, к-рые вулканизуют путем ступенчатой обработки при темп - pax от 150 до 250 С. [17]

Для различных технологических условий на разных стадиях газификации обычно оправдывает себя ступенчатая обработка. Например, на какой-то стадии может возникнуть необходимость повысить давление или изменить температурный режим. На температурных изменениях при постоянном) давлении следует остановиться более подробно. [18]

В настоящей работе исследована возможность получения масел - концентратов нафтеновых и ароматических углеводородов ступенчатой обработкой масляных фракций фенолом. [19]

Длительные выдержки при 500 - 650 вызывают некоторое упрочнение сплава, находящегося в состоянии ступенчатой обработки, по пластические свойства и ударная вязкость при 20 изменяются мало. [20]

Однако возможны и другие пути решения этой задачи, состоящие, например, в ступенчатой обработке сырья. [21]

Спек размалывается и выщелачивается, при этом алюминат натрия и фтористый натрий переходят в раствор, который после обес-кремнивания подвергается ступенчатой обработке двуокисью углерода. Раздельная обработка двуокисью углерода дает возможность в начале процесса выделить гидрат окиси алюминия с небольшим содержанием криолита, а после дополнительной обработки маточного раствора двуокисью углерода выделить криолит с небольшой примесью гидрата окиси алюминия. [22]

Для получения максимально высокого класса чистоты обработанной поверхности, особенно при сложных и больших площадях обработки, необходимо заканчивать обработку на минимальной величине силы тока. Обеспечивается это путем ступенчатой обработки с последовательным снижением силы тока до 20 - 10 - 5 а. Это постепенное снижение тока необходимо для устранения неровностей, остающихся после работы на грубых режимах. [23]

На полях с уклоном 5 - 8 и сильной интенсивностью эрозионных процессов планируют почвозащитные системы обработки с изменением микрорельефа поверхности поля и созданием ступенчатого профиля. Они включают отвальную ступенчатую обработку, вспашку с прерывистым бороздованием, гребневанием, безотвальное рыхление со щелеванием и др. На склоновых землях зяблевую обработку целесообразно проводить в более ранние сроки, не допуская чрезмерного иссушения и уплотнения почвы. [24]

Два отсчетных устройства могут быть соединены в одно. Вся система тарируется путем ступенчатой обработки деталей и измерения по ним относительных перемещений инструмента и детали при надлежащих показаниях приборов. [25]

Ввиду того что растворы после обработки монацита серной кислотой или раствором едкого натра представляют собой сложные смеси, содержащие многие элементы, включая уран, существует несколько вариантов дальнейшей их обработки с целью выделения тория, редкоземельных элементов и богатых ураном фракций с последующей окончательной очисткой. Некоторые технологические схемы сернокислотного способа, используемые в промышленной практике, предусматривают ступенчатую обработку, основанную на различии в растворимости соединений тория и редкоземельных элементов и па их избирательном осаждении. Для отделения тория от редкоземельных элементов применяют сульфат, двойной сульфат, оксалат, двойной карбонат, иодат, нитрат и другие соединения тория. Один из вариантов основан на малой растворимости Th ( SOJ2 - 8H2Ono сравнению с сульфатами церия, неодима, празеодима и лантана. Двойной сульфат тория и натрия можно осаждать из разбавленного раствора сульфата тория. [26]

Схема переходов на - станках с ЧПУ. [27]

Точность обработки на станках с программным управлением зависит от назначения и конструкции станка, а также от встроенной системы. Обычно регламентируется цена командного импульса или в общем случае дискретность программирования, которая для токарных станков находится в пределах 5 - 50 мкм, при этом нижнее значение относится к поперечной подаче; для сверлильно-расточных станков по соблюдению координатных расстояний в пределах 2 - 8 мкм, при этом нижнее значение относится к коорди-натно-расточным станкам, и по соблюдению глубины ступенчатой обработки - 200 - 250 мкм; для фрезерных станков по любой координате в пределах 20 - 25 мкм. [28]

В определенной области концентраций чем концентрированнее проявитель, тем выше его активность и тем меньшая степень фоторазложения хинондиазида необходима для дифференциации растворимости экспонированных и неэкспонированных участков слоя. ФРГ 2420589 предлагается использовать ступенчатый фотолиз и последующую ступенчатую обработку резиста проявителями разной активности. Например, на диэлектрик наносят слой меди толщиной 8 мкм, слой хрома толщиной 0 2 мкм и слой резиста толщиной 2 5 мкм на основе ж-крезольного новолака с ММ1000 и эфира нафтохинондиазидсульфокислоты с тригидроксибензофеноном; облучают через специальную маску, которая обеспечивает различную степень фотолиза резиста; наиболее фотолизованный участок проявляют разбавленным проявителем, хром и медь травят растворами КМпО4 и К2СОз, РеС13 соответственно. Затем более концентрированным проявителем удаляют менее фотолизованные участки и травят хром раствором КМпО4; резист снимают растворителем. В результате получают многослойную схему высокого качества. [29]

В определенной области концентраций чем концентрированнее проявитель, тем выше его активность и тем меньшая степень фоторазложения хинондиазида необходима для дифференциации растворимости экспонированных и неэкспонированных участков слоя. ФРГ 2420589 предлагается использовать ступенчатый фотолиз и последующую ступенчатую обработку резиста проявителями разной активности. Например, на диэлектрик наносят слой меди толщиной 8 мкм, слой хрома толщиной 0 2 мкм и слой резиста толщиной 2 5 мкм на основе ж-крезольного новолака с ММ 1000 и эфира нафтохинондиазидсульфокислоты с тригидроксибензофеноном; облучают через специальную маску, которая обеспечивает различную степень фотолиза резиста; наиболее фотолизованный участок проявляют разбавленным проявителем, хром и медь травят растворами КМпО4 и К СОз, РеС13 соответственно. Затем более концентрированным проявителем удаляют менее фотолизованные участки и травят хром раствором КМпО4; резист снимают растворителем. В результате получают многослойную схему высокого качества. [30]

Страницы: 1 2 3