Cтраница 3
Перед нанесением лака 331 поверхность окрашивают одним, двумя слоями масляной или глифталевой эмали и высушивают при 75 - 80 в течение 4 час. Затем шлифуют мелкой шкуркой, после чего наносят лак. Для образования рисунка лакированную деталь помещают на 25 мин. Характер получаемого рисунка зависит от вязкости лака, толщины нанесенного слоя, режима сушки и др. После появления рисунка лаковое покрытие выдерживается при 15 - 25 в течение 24 - 30 час. Перед отделкой эмалью муар наносится масляный или глифталевый цинкхро-матный грунт. [31]
Явление, сходное с образованием в загрязненных сушильных камерах рисунка мороз на покрытиях, полученных на основе высыхающих масел или смол, модифицированных высыхающими маслами, наблюдается иногда на эмалевых покрытиях на основе мочевино-формальдегидных смол. Известны случаи, когда при разложении трихлорэтилена в установках для обезжиривания получается соляная кислота, катализирующая процесс поликонденсации мочевино-формальдегидной смолы на поверхности покрытия, при ( то сушке в находящейся поблизости сушильной камере. Эффект напоминает образование хорошо известного рисунка мороз па покрытиях, содержащих тупговос масло, при плохих условиях сушки. [32]
Поэтому можно полагать, что налет, образующийся в результате конденсации паров углерода на ВеО, выявляет рельеф поверхности кристалла так же, как электронномикро-скопические реплики. Это подтверждается сходством рисунка с треугольными террасами роста, наблюдавшимися Варма [5] на поверхности кристалла цинковой обманки. Другой причиной образования рисунка может быть избирательная адсорбция углерода определенными участками ровной поверхности монокристалла, хотя это менее вероятно. [33]
Клише представляет собой медный лист толщиной 2 - 3 мм, на поверхности которого фотохимическим способом вытравлена текстура древесины. Благодаря тому что клише имеет впадины различной глубины, на деталь наносится различное количество краски. Это способствует образованию рисунка разной тональности - от светлого до темного. [34]
Радиальные перемещения сегментов исключаются соответствующим подбором их числа. Вкладыш 15 для образования рисунка протектора - сменный. Боковая часть формы 2 служит для удержания сегментов. [35]
Рисунок, образующийся в результате скольжения при торможении, может нарушить рисунок, ранее образованный при повороте, и наоборот. Следует ожидать, что так же, как и в лабораторных условиях, образование рисунка происходит только при скольжении на заметном расстоянии. С этой точки зрения в большинстве случаев дорожный износ протектора может действительно происходить без образования рисунка истирания. В связи с тем, что интенсивность износа шинных протекторов мала ( около 15 8 лгк / 100 км), в этих условьях рисунки истиранкя, по-видимому, не играют существенной роли. [36]
Так как магнитное поле над дефектом неоднородно, то на магнитные частицы порошка, попавшие в это поле, действует сила, стремящаяся затянуть частицы в место наибольшей концентрации магнитных линий ( к полюсности), то есть к дефекту. При этом происходит намагничивание частиц и соединение их в цепочки с ориентацией по магнитным линиям поля дефекта. Далее цепочки и отдельные частицы движутся к месту расположения дефекта, где происходит их накопление и образование рисунка, по форме соответствующего контуру дефекта. [37]
Лак 331 Мороз светло-желтый ( ТУ МХП 1045 - 43) - раствор эфира гарпиуса в смеси тунгового и высыхающих масел ( 42 %) с добавкой сиккатива и растворителя. Высыхание для обеспечения образования рисунка мороз осуществляется по специальному режиму. [38]
Лак КФ-274 ( мороз светло-желтый) ( ТУ 6 - 10 - 1315 - 72) - раствор эфира канифоли ( 42 %) в смеси тунгового и высыхающих масел с добавкой сиккатива и растворителя. Высыхание для обеспечения образования рисунка мороз осуществляется по специальному режиму. [39]
Описанная картина разрушения до некоторой степени упрощена. На механизм образования рисунка разрушения могут влиять многие факторы. Разного рода дефекты, встречающиеся как в аморфных, так и в кристаллических телах, значительные неоднородности в материале, надрезы, геометрическая форма и даже различные взаимодействия между элементами структуры при развитии разрушения - все это усложняет анализ топографических данных. Тем не менее механизм образования рисунка в принципе сохраняется постоянным. [40]
Кислотная обработка ( травление) может применяться для получения на поверхности сортовых изделий тонких рисунков различной глубины. Затем вручную или при помощи пантографа прорезают в защитном слое рисунок. После этого изделия погружают в ванну с кислотой, где незащищенные мастикой участки поверхности травятся с образованием рисунка. [41]
Объект съемки, как правило, состоит из множества элементов, находящихся на разных расстояниях от точки съемки, а в образовании фотоизображения действует следующая закономерность: масштаб изображения предмета на снимке определяется отношением размера изображения к действительным размерам предмета; масштаб изображения прямо пропорционален фокусному расстоянию объектива и находится в обратной зависимости от расстояния, с которого ведется съемка. Предметы переднего плана изобразятся крупно, детали отдаленного фона - мелко. Если учесть, что перспектива определяется отношением этих масштабов, то для образования энергичного перспективного рисунка нужны такие точки съемки, которые подчеркнут эту разницу масштабов. [42]