Отложение - серебро
Cтраница 1
Относительно тонкие отложения серебра получают в ванне за один прием. Если же требуется более толстый и плотный слой, то изделия периодически вынимают из ванны и крацуют мягкой медной щеткой, а затем подвешивают обратно в ванну для дальнейшего осаждения. Этот прием повторяют через каждые 2 - 3 ч до получения слоя отложения требуемой толщины. [1]
Относительно тонкие отложения серебра получают в ванне за один прием. Если же требуется более толстый и плотный слой, то изделия периодически вынимают из ванны и крацуют мягкой медной щеткой, а затем подвешивают обратно в ванну для дальнейшего осаждения. Этот прием повторяют через каждые 2 - 3 часа до получения слоя отложения требуемой толщины. [2]
Грубое, крупнокристаллическое отложение серебра, иногда с потемнением и рыхлое, имеет место при высокой плотности тока, особенно в момент завешивания деталей. Крупная пористость покрытия, образующаяся вследствие задержки пузырьков водорода, так называемый питтинг, в форме точек или вертикальных стрелок устраняется покачиванием штанг, перемешиванием электролита или введением реверсирования тока. [3]
Так как отложение серебра на поверхности непроводника начинается сразу же после смешения компонентов серебрящего раствора, а в объеме раствора выделение серебра задерживается, то чем длительнее эта задержка ( происходящая при низких температурах), тем большие количества серебра будут выделяться на поверхности непроводника. [4]
 |
Восстановление ионов серебра металлической медью. [5] |
Естественно, что отложение серебра на поверхности меди может замедлить реакцию. [6]
При аргирии имеет место коричневый или серо-синеватый окрас, вызванный отложением серебра или его нерастворимых соединений, особенно в областях, подвергающихся воздействию света. [7]
В первый момент на поверхности осаждается атомарный слой серебра ( подложка), в дальнейшем происходит отложение серебра на металлической подложке. Структура подложки определяет структуру и качество проводящего слоя. [8]
При восстановительном действии хлорида олова в результате соприкосновения адсорбированной пленки с раствором серебрения некоторое количество серебра восстанавливается, и благодаря этому начинается отложение серебра. [9]
При серебрении нейзильбера, имеющем большое примене-нени для столовых приборов и предметов домашнего обихода, а также для ювелирных изделий и для пружин контактов и реле, отложение серебра без тока при погружении в растворы серебрения уменьшает прочность сцепления гальванических покрытий. Серебро не осаждается без тока на амальгамированных поверхностях. Поэтому раньше в производстве столовых приборов было распространено амальгамирование нейзильбера, которое сейчас в значительной мере заменено предварительным серебрением и предварительным никелированием. [10]
Так как опыты с хорошо отожженными макрокристаллами показали [30], что в свободных от нарушений кристаллах фотолитическое серебро не выделяется, то можно считать, что места отложения серебра свидетельствуют о наличии локальных нарушений в эмульсионных микрокристаллах. [11]
Непосредственное спектрофотометрическое наблюдение отдельных стадий фотографического процесса показывает [57] постепенное накопление и рост серебряных центров на протяжении химического созревания, дальнейшее их увеличение при экспонировании и в индукционном периоде и бурное отложение серебра в видимой стадии проявления. [12]
Для серебрения колбы ( пробирки) наливают в нее два объема раствора ( а) и один объем раствора ( б) ( формалина), взбалтывают и оставляют стоять в течение 15 - 20 мин до отложения серебра зеркальным слоем. Плоское стекло кладут на дно кюветы и заливают раствором. После серебрения необходима тщательная промывка дистиллированной водой. [13]
 |
Кинетика изменения S и Do ( в, а также оптической плотности серебра созревания ( б. [14] |
Таким образом, описанные наблюдения, если их сравнить с картиной искусственного вуалеобразования при действии восстановителя ( см. рис. III.42), приводят к выводу, что вуаль может возникать двумя путями: во-первых, в результате спонтанного восстановления галогенида серебра и отложений серебра на примесных центрах и, во-вторых, вследствие образования собственно центров вуали. Указанные особенности оказываются весьма выгодными в фотографическом смысле. Хотя в первом случае образование вуали начинается с первого момента действия проявителя, но скорость ее нарастания незначительная; во втором же случае проявление вуали должно протекать так же быстро, как и скрытого изображения, однако формирование центров вуали происходит с затруднением, и поэтому достижение максимальной светочувствительности при созревании опережает начало быстрого роста вуали. [15]
Страницы: 1 2 3