Cтраница 1
Электролитические отложения в гальванопластике отличаются от осадков в гальваностегии тем, что они должны легко отделяться от покрываемого предмета и хорошо воспроизводить ( копировать) мельчайшие подробности рисунка или рельефа поверхности. Кроме этого, гальванопластические отложения должны иметь достаточно большую толщину ( до 1 мм и больше) и обладать необходимыми физико-механическими свойствами: пластичностью, повышенной твердостью, прочностью на сжатие и растяжение. [1]
Электролитическое отложение металла, вообще говоря, не бывает равномерным, что особенно заметно при наращивании толстых гальванопластических слоев. [2]
В качестве анодов при электролитическом отложении латуни рекомендуется применять латунные пластины, содержащие 60 - 70 % меди и 40 - ЗО / о цинка. Толщина слоя латуни может быть от 0 0002 до 0.01 мм. Для получения достаточной толщины слоя латунирование должно протекать 15 - 20 мин. Большое значение имеет физическая структура слоя латуни и хорошее сцепление ее с металлом. [3]
Петербургский физик Борис Семенович Якоби ( 1801 - 1874) положил начало гальванопластике - электролитическому отложению металлов на поверхности различных предметов с целью получения точных металлических копий. [4]
Электролитическое хромирование и отличие от других гальванических покрытии имеет ряд особенностей, одной из которых является осуществление электролитического отложения хрома с применением нерастворимых анодов и. [5]
Непрерывность химически восстановленной пленки серебра на деталях при погружении их в обычные кислые растворы медных солей нарушается, что приводит к неудовлетворительному последующему электролитическому отложению металла на них. Удовлетворительные электролитические медные покрытия получаются только в том случае, если сразу по погружении деталей в раствор начать процесс электролитического отложения металла. Если электролитическое отложение меди начинается не сразу, серебряная пленка сходит с некоторых участков поверхности и они остаются непокрытыми. Растворы медных электролитов с низким содержанием серной кислоты, хотя и не разрушают быстро серебряную пленку, не дают удовлетворительных покрытий. Лучшие покрытия получаются при комбинированных электролитах. Первоначально детали покрывают полностью слоем меди незначительной толщины в ванне с содержанием 1 5 % вес. [6]
HI 13 / 0, Снижение усталостной прочности и здесь, вероятно, объясняется наличием остаточных растягивающих напряжении, появляющихся в слое меди при электролитическом отложении ее на стали. Возникновение остаточных растягивающих напряжений подтверждается изгибанием тонкой пластинки при одностороннем нанесении на нее меди в сторону покрытия. [7]
В отличие от электролитического никелирования химический процесс сопровождается быстрым истощением раствора и резким падением скорости осаждения. При электролитическом отложении постоянная концентрация компонентов ванны поддерживается за счет непрерывного растворения анодов. В ряде растворов скорость осаждения практически прекращается после 2 - 3 ч работы ванны. При корректировании состава электролита ванну останавливают каждый час для добавления компонентов. [8]
Электролитическое выделение металлов имеет широкое применение в металлургии для рафинирования металлов и их извлечения из растворов после выщелачивания руд и концентратов, а также для получения металлических порошков. Вся гальванотехника основана на электролитическом отложении металлов. При заряде отрицательных электродов в аккумуляторах обычно выделяется металл. [9]
Для удаления остатков окалины и травильного шлама детали подвергаются крацеванию путем механической обработки во вращающихся барабанах или с помощью стальных щеток. Декапирование производится содоциановым раствором или иным раствором в зависимости от электролита, применяемого при электролитическом отложении латуни. [10]
Для удаления остатков окалины и травильного шлама детали подвергаются крацеванию путем механической обработки во вращающихся барабанах или с помощью стальных щеток. Декапирование производится содоциано-вым раствором или иным раствором в зависимости от электролита, применяемого при электролитическом отложении латуни. [11]
Непрерывность химически восстановленной пленки серебра на деталях при погружении их в обычные кислые растворы медных солей нарушается, что приводит к неудовлетворительному последующему электролитическому отложению металла на них. Удовлетворительные электролитические медные покрытия получаются только в том случае, если сразу по погружении деталей в раствор начать процесс электролитического отложения металла. Если электролитическое отложение меди начинается не сразу, серебряная пленка сходит с некоторых участков поверхности и они остаются непокрытыми. Растворы медных электролитов с низким содержанием серной кислоты, хотя и не разрушают быстро серебряную пленку, не дают удовлетворительных покрытий. Лучшие покрытия получаются при комбинированных электролитах. Первоначально детали покрывают полностью слоем меди незначительной толщины в ванне с содержанием 1 5 % вес. [12]
Непрерывность химически восстановленной пленки серебра на деталях при погружении их в обычные кислые растворы медных солей нарушается, что приводит к неудовлетворительному последующему электролитическому отложению металла на них. Удовлетворительные электролитические медные покрытия получаются только в том случае, если сразу по погружении деталей в раствор начать процесс электролитического отложения металла. Если электролитическое отложение меди начинается не сразу, серебряная пленка сходит с некоторых участков поверхности и они остаются непокрытыми. Растворы медных электролитов с низким содержанием серной кислоты, хотя и не разрушают быстро серебряную пленку, не дают удовлетворительных покрытий. Лучшие покрытия получаются при комбинированных электролитах. Первоначально детали покрывают полностью слоем меди незначительной толщины в ванне с содержанием 1 5 % вес. [13]
В дальнейшем исследователи ограничились лишь полностью заэкранированной линией или линией полного профиля, и работа, описываемая здесь, основывалась именно на этом типе конструкции. Эти линии были изготовлены путем электролитического отложения меди на моделях цепей, изготовленных с использованием серебряной проводящей краски. [14]
Волокнистый углерод может получаться как при разложении смеси окиси углерода с водородом на поверхности железа при температуре 1000 С, так и при крекинге метана, разбавленного азотом, в тех же условиях. Исследования показали, что катализатором реакции является или железо, или карбид железа. В качестве катализаторов были исследованы медь, никель, серебро, железо, хром, молибден и электролитические отложения палладия и родия. Было установлено, что образованию волокнистого углерода способствуют только железо, никель и кобальт. При этом в зависимости от примененного катализатора волокна имеют разную структуру. [15]