Cтраница 1
Отношение интенсивности центральной компоненты ( / 2 - - - - / 2) линий 21, получающихся в результате-квадруполь-ного взаимодействия в кристалле некубической симметрии, к полной интенсивности, включающей все дополнительные компоненты, равно 4 / т для ядер с / 3 / 2 и 9 / 3г, для ядер с / 5 / 2 - Дислокации, образующиеся в кристалле при пластической деформации, приводят к локальным отклонениям от кубической симметрии и к появлению градиента электрического поля, который вызывает появление дополнительных компонентов, отстоящих от центрального компонента, который при эффектах первого порядка не изменяется при квадрупольном взаимодействии. Значения eq колеблются в некотором диапазоне, а дополнительные линии не резки и растянуты в широком диапазоне частот или напряженности поля, так что их нельзя наблюдать экспериментально. Это размывание дополнительных линий особенно заметно для Вг79, Вг81 и I127 ввиду больших ядерных квадрупольных моментов и антиэкранирующих факторов для этих атомов. [1]
![]() |
Концентрационная кривая, снятая по FeKa в образце стали, армированной. [2] |
Отношение интенсивностей - - ( с учетом фона) в первом приближении равно весовой концентрации элемента в пробе, поэтому для полуколичественного анализа достаточно измерить / / и / 0 для всех элементов, находящихся в образце. [3]
Отношение интенсивностей двух линии одного спектра может быть измерено автоматически при помощи специальных схем регистрации. [4]
Отношение интенсивностей двух спектральных линий различных газов меняется с изменением электронной температуры. Из двух компонентов смеси большие изменения при изменении Те наблюдаются для компонента с более высоким потенциалом ионизации. Отсюда следует, что рост электронной температуры вызывает относительное усиление линий трудновозбудимого компонента. Поэтому, например, в смеси аргон - гелий с уменьшением давления и диаметра разрядной трубки наблюдается усиление линий гелия. [5]
![]() |
Сдвиг спектров поглощения моно-н-алкилбензолов относительно спектра бензола ( Av - 0 в зависимости от массового числа заместителя ( Л4рад. [6] |
Отношение интенсивностей оценено визуально по негативам спектров кристаллов различных толщин и с разными развитыми плоскостями. [7]
Отношение интенсивностей оценено визуально по негативам спектров кристаллов различных толщин с разными развитыми плоскостями. [8]
![]() |
Концентрационная кривая, снятая по FeKa в образце стали, армированной. [9] |
Отношение интенсивностей - - ( с учетом фона) в первом приближении равно весовой концентрации элемента в пробе, поэтому для полуколичественного анализа достаточно измерить / г - и / 0 для всех элементов, находящихся в образце. [10]
![]() |
К расчету функции распределения амплитуды для случаев выпуклой сферической линзы. [11] |
Отношение интенсивностей будет, таким образом, пропорционально отношению отрезков А / и 2 - 2, а отношение давлений - корню квадратному из этой величины. Не входя в детали расчета, приведенного в работе [11], из рисунка можно заключить, что при углах, близких к нулю, размеры отрезков А. По мере увеличения угла a отрезок А г / остается неизменным, тогда как отрезок 2 - 2 уменьшается, и отношение интенсивности в сходящейся волне / а к интенсивности в падающей плоской волне / 0 растет. [12]
Отношение интенсивностей 1Х / 1Г будет равно нулю в случае, если истинная концентрация равна нулю. Недостаток этого метода состоит в том, что точность определения снижается для нелинейной экстраполяции. [13]
![]() |
Порошковая дифракционная модель виллемита ( Zn SiO4, полученная с излучением Kg-линии кобальта на пленке, закрепленной по Ван Аркелю. [14] |
Отношение интенсивностей между характеристическим и непрерывным излучением зависит от рабочего напряжения на рентгеновской трубке. Наиболее благоприятное отношение для любых материалов мишени и серии линий получается при напряжении, примерно в 4 раза превышающем потенциал возбуждения. Этот оптимальный потенциал, однако, не является критическим. Обычно на трубку подается максимальный при данном рабочем напряжении ток, величина которого зависит от длительности эксплуатации трубки и необходимости сводить время экспозиции до минимума. [15]