Отношение - смещение
Cтраница 1
 |
Образцы для испытания резины на одинарный ( а и двойной ( б сдвиги. [1] |
Отношение смещения Д / г к начальной толщине образца а представляет собой относительный сдвиг Y - Поскольку площадь плоскости сдвига постоянна, понятия условного и истинного напряжения сдвига совпадают. [2]
 |
Образцы для испытания резины на сдвиг. а - одинарный. б - двойной. [3] |
Отношение смещения Aft к начальной толщине образца а представляет собой относительный сдвиг у. Поскольку площадь плоскости сдвига постоянна, понятия условного и истинного напряжений сдвига т совпадают. [4]
Отношение смещения производящей поверхности к модулю называют коэффициентом смещения. При осевой форме зуба I смещение производящей поверхности, как и модуль, пропорциональны конусному расстоянию, поэтому коэффициент смещения во всех торцовых сечениях одинаков. [5]
Найти отношение ожидавшегося смещения полос интерференции ( при повороте прибора на 90) к ширине полосы в предположении, что скорость Земли относительно мирового эфира, как и относительно Солнца, составляет 30 км / сек. [6]
В отношении смещения максимума поглощения в ЭСП каждая группа СО по чти так же эффективна, как четыре СС-группы. [7]
 |
Схема определения R, компонентов смеси. [8] |
Rf равно отношению смещения зоны к смещению фронта растворителя. На рис. 84 дано пояснение этого соотношения. [9]
 |
Схема определения Rf компонентов смеси по результатам хроматографиро. [10] |
R, равно отношению смещения зоны к смещению фронта растворителя. На рис. 76 дано пояснение этого соотношения. Здесь А:, и х2 - пути, пройденные соответственно первым и вторым компонентами разделяемой смеси от начального положения; Xf - путь, пройденный фронтом растворителя. R / Ф Rf, следовательно, зоны компонентов разделятся. Величина Rf в идеальном случае характеризует скорость продвижения зоны компонента по бумаге и зависит от природы выбранных жидких подвижных и неподвижных фаз. Следовательно, Rf определяется только коэффициентом распределения ( который зависит от температуры) и параметров бумаги или тонкого слоя носителя. [11]
 |
Схема опыта Мессбауэра.| Схема распада Os. [12] |
Глубина модуляции определяется отношением смещения излучателя к длине волны у-излучения. Следовательно, интенсивность линии Мессбауэра будет тем больше, чем меньше амплитуда колебаний излучателя, растущая с темп-рой, и чем больше длина волны у-излуче-ння. [13]
Чувствительностью отклоняющих систем называют отношение смещения электронного луча на рабочей поверхности приемника электронов к величине вызвавшего его отклоняющего фактора. [14]
Если, например, рассматривать отношение смещений ядер молекулы из положений равновесия к операциям симметрии в декартовой системе координат или в системе внутренних естественных координат, как это было сделано выше для нелинейной трехатомной молекулы XY2, то можно получить приводимые представления точечной группы симметрии. [15]
Страницы: 1 2 3 4